| 全光亮镀铁工艺的研究 |
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| 引用本文： | 左正忠,李卫东,胡进,冯祥明,吴慧敏,梁国柱,袁国伟,詹益腾.全光亮镀铁工艺的研究[J].武汉大学学报(理学版),2001,47(6):697-702. |
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| 作者姓名： | 左正忠 李卫东 胡进 冯祥明 吴慧敏 梁国柱 袁国伟 詹益腾 |
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| 作者单位： | 1. 武汉大学化学与分子科学学院,
2. 广州二轻科研所, |
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| 摘 要： | 介绍了一种新型的电镀光亮镀的工艺，使用了“抑氢剂”，并用小槽电镀，Hull Cell实验研究了镀液的性能，还运用线性电位扫描法，旋转圆盘电极法测试了镀液的阴极极化性能和整平性能，采用SEM法观察镀层的形貌，实验结果表明：光亮剂的加入可增大铁沉积时的阴极极化，并伴有整作用，而抑氢剂可增大氢在铁上析出的过电位，从而可提高铁沉积的电流效率并降低镀层的应力。
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| 关 键 词： | 镀铁 光亮剂 抑氢剂 电镀工艺 镀液 阴极氧化性能 整平性能 |
| 文章编号： | 0253-9888(2001)06-0697-06 |
| 修稿时间： | 2001年3月20日 |
Study on the Bright Iron-Plating |
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| ZUO Zheng-zhong ,LIANG Guo-zhu ,LI Wei-dong ,YUAN Guo-wei HU Jin ,ZHAN Yi-teng ,FENG Xiang-ming ,WU Hui-min.Study on the Bright Iron-Plating[J].JOurnal of Wuhan University:Natural Science Edition,2001,47(6):697-702. |
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| Authors: | ZUO Zheng-zhong LIANG Guo-zhu LI Wei-dong YUAN Guo-wei HU Jin ZHAN Yi-teng FENG Xiang-ming WU Hui-min |
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| Affiliation: | ZUO Zheng-zhong 1,LIANG Guo-zhu 2,LI Wei-dong 1,YUAN Guo-wei 2 HU Jin 1,ZHAN Yi-teng 2,FENG Xiang-ming 1,WU Hui-min 1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | iron-plating brightener hydrogen inhibitor |
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