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| ITO/Rubrene表面及界面的AFM和XPS研究 | |
| 引用本文： | 王金顺,李海蓉,彭应全,向东旭.ITO/Rubrene表面及界面的AFM和XPS研究[J].发光学报,2014,35(2):207. |
| 作者姓名： | 王金顺 李海蓉 彭应全 向东旭 |
| 作者单位： | 王金顺:兰州大学物理科学与技术学院 微电子研究所， 甘肃 兰州730001 李海蓉:兰州大学物理科学与技术学院 微电子研究所， 甘肃 兰州730001兰州大学物理科学与技术学院 磁学重点实验室， 甘肃 兰州730001 彭应全:兰州大学物理科学与技术学院 微电子研究所， 甘肃 兰州730001兰州大学物理科学与技术学院 磁学重点实验室， 甘肃 兰州730001 向东旭:兰州大学物理科学与技术学院 微电子研究所， 甘肃 兰州730001 |
| 基金项目： | 兰州市科技计划(2010-1-1)； 兰州市城关区科技计划(2011-5-2); 信息功能材料国家重点实验室开放课题(12-668)资助项目 |
| 摘 要： | 采用原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱仪(XPS)研究了氧化铟锡(ITO)/红荧烯(Rubrene)的形貌和表面、界面的电子态。AFM结果显示,ITO上的Rubrene膜有良好的均匀性。XPS结果表明:C1s谱有3个峰,位于282.50,284.70,289.30 eV,对应于C—Si、CO和C—C键。用氩离子束溅射表面,芳香碳对应的峰值逐渐增大,其他两个峰值迅速消失。随着表面O污染的去除,O1s峰先快速减弱然后逐渐增强。界面附近的O原子与C原子结合构成OC、C—O—C和醛基。In3d和Sn3d峰则缓慢增强,在界面附近峰值变得稳定。C1s、In3d、Sn3d谱峰都向低束缚能发生化学位移,表明ITO与Rubrene在界面发生了相互作用,形成一个互扩散层。 |
| 关 键 词： | XPS Rubrene 化学位移 界面态 |
| 收稿时间： | 2013/10/23 |
Surface and Interface Analysis of ITO/Rubrene Using AFM and XPS |
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| Abstract: | |
| Keywords: | XPS Rubrene chemical shift interfacial state |
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