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一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法
引用本文:王佳,范斌,万勇建,施春燕,卓彬.一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法[J].光子学报,2014,43(7):722002.
作者姓名:王佳  范斌  万勇建  施春燕  卓彬
作者单位:王佳:中国科学院光电技术研究所,成都 610209中国科学院大学,北京 100049
范斌:中国科学院光电技术研究所,成都 610209
万勇建:中国科学院光电技术研究所,成都 610209
施春燕:中国科学院光电技术研究所,成都 610209
卓彬:中国科学院光电技术研究所,成都 610209
基金项目:国家自然科学基金(61378054)资助
摘    要:结合光学加工中材料去除的卷积模型和功率谱密度函数,建立了描述CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的数学模型——平滑谱函数.利用Rigid Conformal磨盘抛光620mm口径微晶平面玻璃,通过计算平滑谱函数曲线,将CCOS抛光工艺抑制不同频段误差的能力表示为归一化且无量纲的频谱曲线.计算结果表明平滑谱函数曲线能以数值大小评价CCOS抛光工艺对不同频率误差的抑制能力.

关 键 词:光学加工  平滑谱函数  功率谱密度  中高频误差  卷积模型
收稿时间:2013/10/15

A Method to Evaluate the Error Restraint Ability of CCOS Process
Abstract:
Keywords:Optical manufacturing  Smoothing spectral function  Power spectral density  Middle spatial frequency error  Convolution model
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