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| 高频脉冲电沉积改善Ni镀层的组织和性能 | |
| 引用本文： | 王子涵,杨滨,蒋春丽,王庆富,张鹏程,范爱萍. 高频脉冲电沉积改善Ni镀层的组织和性能[J]. 中国有色金属学报, 2011, 21(4) |
| 作者姓名： | 王子涵 杨滨 蒋春丽 王庆富 张鹏程 范爱萍 |
| 作者单位： | 1. 北京科技大学新金属材料国家重点实验室,北京,100083 2. 北京科技大学新金属材料国家重点实验室,北京100083;中国科学院国际材料物理中心,沈阳,110016 3. 中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室,绵阳,621900 |
| 基金项目： | 表面物理与化学国家重点实验室开放基金资助项目 |
| 摘 要： | 采用高频脉冲电沉积制备纳米Ni镀层,研究高频脉冲频率对纳米Ni镀层组织、腐蚀性能和摩擦性能的影响;室温下,在含50 μg/g Cl-的氯化钾溶液中通过测试Ni镀层的极化曲线和电化学阻抗谱(EIS)研究其腐蚀性能.结果表明:在实验脉冲频率范围内(30～100kHz),提高脉冲频率,可使Ni镀层晶粒细化;电极过程的转移电阻从30 kHz时沉积Ni镀层的1.97× 10<'4>Ω·cm<'2>增大到100kHz时的6.56×10<'4> Ω·cm<'2>,自腐蚀电位从一551.41 mV正移到-420.28 mV,这表明高频沉积的Ni镀层晶粒更细小,致密性更高,因而耐蚀性更强.摩擦试验结果表明:摩擦因数由30 kHz时沉积Ni镀层的0.39降低到100 kHz时的0.25,说明高频沉积的Ni镀层具有更强的耐磨性;镀层晶粒细化、较高的致密性和硬度是耐磨性提高的主要原因. |
| 关 键 词： | Ni镀层 脉冲电沉积 耐蚀性 摩擦因数 |
Improvement of microstructure and properties of Ni coating prepared by high frequency pulsed-electrodeposition |
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| WANG Zi-han,YANG Bin,JIANG Chun-li,WANG Qing-fu,ZHANG Peng-cheng,FAN Ai-ping. Improvement of microstructure and properties of Ni coating prepared by high frequency pulsed-electrodeposition[J]. The Chinese Journal of Nonferrous Metals, 2011, 21(4) | |
| Authors: | WANG Zi-han YANG Bin JIANG Chun-li WANG Qing-fu ZHANG Peng-cheng FAN Ai-ping |
| Affiliation: | WANG Zi-han1,YANG Bin1,2,JIANG Chun-li3,WANG Qing-fu3,ZHANG Peng-cheng3,FAN Ai-ping1 (1.State Key Laboratory for Advanced Metals and Materials,University of Science and Technology Beijing,Beijing 100083,China,2.International Centre for Materials Physics,Chinese Academy of Sciences,Shenyang 110016,3.National Key Laboratory for Surface Physics and Chemistry,Chinese Academy of Engineering Physics,Mianyang 621900,China) |
| Abstract: | |
| Keywords: | Ni coating pulsed-electrodeposition corrosion resistance friction coefficient |
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