| 反应磁控溅射法制备Y2O3金刚石红外减反膜 |
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| 引用本文： | 郭会斌,魏俊俊,王耀华,贺琦,吕反修,唐伟忠. 反应磁控溅射法制备Y2O3金刚石红外减反膜[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2008, 0(3): 10-15 |
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| 作者姓名： | 郭会斌 魏俊俊 王耀华 贺琦 吕反修 唐伟忠 |
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| 作者单位： | 北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 , 高等学校博士学科点专项科研项目 |
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| 摘 要： | 采用纯钇(Y)金属靶,在氧 氩反应气氛中进行了Y2O3薄膜直流反应磁控溅射沉积.研究了工艺参数改变对薄膜的影响,选择较优的工艺在金刚石表面沉积符合光学厚度的薄膜,达到增透减反射效果.利用X射线光电子能谱(XPS)和扫描电子显微镜(SEM)研究了薄膜的组成和结构.利用X射线衍射仪(GIXRD)和椭偏仪(Ellipsometer)研究了不同衬底温度和热处理温度对氧化钇薄膜组织结构和光学性能的影响.采用傅立叶红外光谱仪(FTIR)检测了镀膜前后金刚石红外透过性能.研究发现Y2O3薄膜能够有效提高金刚石在8～12 μm的红外透过性能,在8 μm处最大增透可达21.8%,使金刚石红外透过率由66.4%提高到88.2%;在3～5 μm范围,双面镀制了Y2O3薄膜的金刚石平均透过率达64.9%,比没有镀膜的金刚石在该处的平均透过率54%高出10.9%.
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| 关 键 词： | Y2O3薄膜 反应磁控溅射法 红外透过率 减反射 |
| 文章编号： | 1006-852X(2008)03-0010-05 |
| 修稿时间： | 2008-03-25 |
Reactive magnetron sputtering of IR anti-reflection Y2O3 coatings for freestanding CVD diamond window applications |
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| Guo Huibin,Wei Junjun,Wang Yaohua,He Qi,Lv Fanxiu,Tang Weizhong. Reactive magnetron sputtering of IR anti-reflection Y2O3 coatings for freestanding CVD diamond window applications[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2008, 0(3): 10-15 |
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| Authors: | Guo Huibin Wei Junjun Wang Yaohua He Qi Lv Fanxiu Tang Weizhong |
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