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| 磁增强反应离子刻蚀系统中的发射光谱诊断技术 | |
| 引用本文： | 赖国燕,范平.磁增强反应离子刻蚀系统中的发射光谱诊断技术[J].真空科学与技术,1996,16(5):372-375. |
| 作者姓名： | 赖国燕 范平 |
| 作者单位： | [1]深圳市新开达电子公司 [2]深圳大学应用物理系 |
| 摘 要： | 利用发射光谱诊断技术研究了磁增强反应离子刻蚀系统中ＣＦ４＋Ｏ２的辐射谱、谱线成分及强度，分析了谱线强度与射频福射功率、氧气含量的关系，并与没有磁场存在时的情况作了比较。 |
| 关 键 词： | 磁增强 离子刻蚀 发射光谱诊断 半导体器件 |
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