| 沉积温度对氧化锆薄膜显微结构的影响 |
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| 引用本文： | 康文博,罗发,周万城,朱冬梅,黄智斌. 沉积温度对氧化锆薄膜显微结构的影响[J]. 热加工工艺, 2012, 41(4): 117-119 |
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| 作者姓名： | 康文博 罗发 周万城 朱冬梅 黄智斌 |
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| 作者单位： | 西北工业大学凝固技术国家重点实验室,陕西西安,710072 |
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| 基金项目： | 西北工业大学基础研究基金资助项目(NPU-FFR-JC20110213) |
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| 摘 要： | 采用直流反应磁控溅射工艺在25、300℃沉积温度下分别制备了ZrO2薄膜和YSZ薄膜。结果表明,沉积温度对ZrO2薄膜沉积速率的影响不大,而对YSZ薄膜沉积速率的影响则很大。与YSZ薄膜相比,ZrO2薄膜容易形成结晶态。25℃时所制备的ZrO2薄膜为非晶态,300℃时则为单斜晶体结构,薄膜的结晶程度随沉积温度的升高而提高。而两种温度下制备的YSZ薄膜均为非晶态薄膜。随沉积温度的升高,ZrO2薄膜表面变得致密光滑,而YSZ薄膜表面则变得粗糙不平。
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| 关 键 词： | 沉积温度 磁控溅射 ZrO2薄膜 YSZ薄膜TB321 |
Effects of Deposition Treatment Temperature on Microstructure of Zirconia Films |
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| KANG Wenbo , LUO Fa , ZHOU Wancheng , ZHU Dongmei , HUANG Zhibin. Effects of Deposition Treatment Temperature on Microstructure of Zirconia Films[J]. Hot Working Technology, 2012, 41(4): 117-119 |
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| Authors: | KANG Wenbo LUO Fa ZHOU Wancheng ZHU Dongmei HUANG Zhibin |
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| Affiliation: | (State Key Laboratory of Solidification Processing,Northwestern Polytechnical University,Xi’an 710072,China) |
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