| 工艺条件对Zn0.88Ni0.02Li0.10O薄膜取向、形貌和磁性的影响 |
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| 引用本文： | 李剑,刘珊,潘伟.工艺条件对Zn0.88Ni0.02Li0.10O薄膜取向、形貌和磁性的影响[J].稀有金属材料与工程,2007,36(Z1). |
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| 作者姓名： | 李剑 刘珊 潘伟 |
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| 摘 要： | 采用旋转涂覆法在普通玻璃上制备了Zn0.88Ni0.02Li0.10O薄膜,以X射线和扫描电镜作为表征手段,讨论了不同工艺参数对该薄膜取向和形貌的影响.结果表明:热处理温度和旋涂速度较高时取向增强,形貌较好.VSM磁性测量表明:在玻璃基底和硅基底旋涂的薄膜都没有出现明显的磁滞现象.
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| 关 键 词： | 工艺条件 取向 形貌 磁性 |
Influence of Processing Parameters on the Orientation and Microstructure of Zn0.88Ni0.02Li0.10O Film |
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| Li Jian,Liu Shan,Pan Wei.Influence of Processing Parameters on the Orientation and Microstructure of Zn0.88Ni0.02Li0.10O Film[J].Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(Z1). |
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| Authors: | Li Jian Liu Shan Pan Wei |
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| Keywords: | ZnO |
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