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| 氧化铟锡透明导电电极的刻蚀研究 | |
| 引用本文： | 翟莲娜,周化岚,李小慧,顾哲明,陈亮.氧化铟锡透明导电电极的刻蚀研究[J].腐蚀科学与防护技术,2014(1). |
| 作者姓名： | 翟莲娜 周化岚 李小慧 顾哲明 陈亮 |
| 作者单位： | 上海理工大学城市建设与环境工程学院;上海材料研究所上海工程材料应用与评价重点实验室;上海空间电源研究所; |
| 基金项目： | 上海市科委项目(1052nm02500,11dz1140800和12dz12011 1100)资助 |
| 摘 要： | 研制了一种可用于氧化铟锡(ITO)透明电极的刻蚀液,研究了其刻蚀效果,并推断刻蚀机理。选用不同pH值的FeCl3水溶液作为刻蚀功能成分,将PEG10000作为介质,以气相SiO2为触变剂制备刻蚀液,用丝网印刷法对ITO电极进行刻蚀实验,研究了不同刻蚀条件对刻蚀效果及ITO电极体积电阻率的影响。结果表明,pH值为1.67时,于80℃,90 min后ITO薄膜的刻蚀效果最优。通过EDS表征ITO电极元素的变化,用原子力显微镜(AFM)观察电极微观形貌的变化。 |
| 关 键 词： | 氧化铟锡(ITO) 湿法刻蚀 丝网印刷 |
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