| 磁控溅射法制备氮掺杂的氧化锌薄膜 |
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| 引用本文： | 肖锋伟,郑新亮,江洪湖,李倩,姚合宝. 磁控溅射法制备氮掺杂的氧化锌薄膜[J]. 西北大学学报(自然科学版), 2009, 39(2) |
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| 作者姓名： | 肖锋伟 郑新亮 江洪湖 李倩 姚合宝 |
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| 作者单位： | 西北大学,物理学系,陕西,西安,710069 |
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| 基金项目： | 国家大学生创新性实验计划，国家自然科学基金 |
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| 摘 要： | 目的 比较氮掺杂的氧化锌薄膜与纯氧化锌薄膜的发光特性.方法 用射频磁控溅射法,在玻璃衬底上通过控制氢气,氧气,氮气的流量,制备了纯氧化锌薄膜和氮掺杂的氧化锌薄膜样品.结果 通过比较纯氧化锌薄膜样品和氮掺杂的氧化锌薄膜样品的发光谱,在466nm(2.6 eV)附近发现了一个发光峰;氮掺杂的氧化锌薄膜样品的带隙比纯氧化锌薄膜样品的带隙宽.结论 氮掺杂的氧化锌薄膜在466 nm左右的发光峰与氮有关;带隙变宽的原因:一个是样品中的晶粒小引起的量子限制效应,另一个是压应力引起的氧化锌晶格中的氧原子的2p轨道和锌原子的4s轨道之间斥力增大.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 氮掺杂的氧化锌薄膜 光致发光(PL) |
N-doped zinc oxide thin films by rf magnetron sputtering |
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| XIAO Feng-wei,ZHENG Xin-liang,JIANG Hong-hu,LI Qian,YAO Hebao. N-doped zinc oxide thin films by rf magnetron sputtering[J]. Journal of Northwest University(Natural Science Edition), 2009, 39(2) |
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| Authors: | XIAO Feng-wei ZHENG Xin-liang JIANG Hong-hu LI Qian YAO Hebao |
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