| 基板温度对常压化学气相沉积法制备TiO2复合薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 林明贤,赵高凌,汪建勋,翁文剑,刘军波,应益明,韩高荣.基板温度对常压化学气相沉积法制备TiO2复合薄膜性能的影响[J].硅酸盐学报,2007,35(11):1520-1525. |
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| 作者姓名： | 林明贤 赵高凌 汪建勋 翁文剑 刘军波 应益明 韩高荣 |
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| 作者单位： | 1. 浙江大学材料科学与工程学系,硅材料国家重点实验室,杭州,310027
2. 杭州蓝星新材料技术有限公司,杭州,310027 |
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| 基金项目： | 教育部高等学校科技创新工程重大项目培育资助项目
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国家自然科学基金 |
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| 摘 要： | 以Ti(OC3H7)4为先驱体,SnO2:F镀膜玻璃为基板,采用常压化学气相沉积法制备了TiO2/SnO2:F复合薄膜.用扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见-近红外透射光谱等手段对样品的物相和性能进行了研究.结果表明:金红石相的SnO2:F底膜促进了TiO2金红石相的形成;当基板温度为480 ℃时,TiO2/SnO2:F复合薄膜出现针状结构,但随着基板温度继续升高,针状结构消失.样品的可见光透过率随基板温度而变化,其值为60%～90%,基本满足建筑物的采光要求.当基板温度为530 ℃时,TiO2/SnO2:F复合薄膜的光催化性能最好.
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| 关 键 词： | 二氧化钛 掺氟二氧化锡 常压化学气相沉积 节能 光催化性. |
| 文章编号： | 0454-5648（2007）11-1520-06 |
| 修稿时间： | 2007-01-05 |
EFFECT OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON THE PROPERTIES OF TiO2 COMPOSITE FILMS DEPOSITED BY ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
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| LIN Mingxian,ZHAO Gaoling,WANG Jiangxun,WENG Wenjian,LIU Junbo,YING Yiming,HAN Gaorong.EFFECT OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON THE PROPERTIES OF TiO2 COMPOSITE FILMS DEPOSITED BY ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2007,35(11):1520-1525. |
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| Authors: | LIN Mingxian ZHAO Gaoling WANG Jiangxun WENG Wenjian LIU Junbo YING Yiming HAN Gaorong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | titanium dioxide fluorin-doped tin dioxide atmospheric pressure chemical vapor deposition energy-saving photocatalysis |
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