| 深蚀刻二元光学元件制作误差模拟 |
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| 引用本文： | 徐平,唐继跃,庞霖,郭履容,郭永康. 深蚀刻二元光学元件制作误差模拟[J]. 中国激光, 1997, 0(6) |
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| 作者姓名： | 徐平 唐继跃 庞霖 郭履容 郭永康 |
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| 作者单位： | 四川大学信息光学研究所 |
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| 基金项目： | 湖北省教委青年基金,国家自然科学基金 |
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| 摘 要： | 用计算机研究并给出了深蚀刻二元光学元件制作误差对衍射效率影响的规律；将深刻蚀二元光学元件与一般二元光学元件制作误差规律的不同之处进行了分析说明；提出了深刻蚀二元光学元件制作误差规律的经验公式
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| 关 键 词： | 制作误差，计算机模拟，深刻蚀，二元光学元件，经验公式 |
Fabricaion Errors Simulation of Deep Etched Binary Optics Elements |
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| Abstract: | In this paper, we investigate and present the law of diffractive efficiency versus fabrication error of deep etched binary optics, and compare differences of the law between the deep etched and the ordinary binary optics technologies. The experience formula, which can better describe the fabrication errors of the deep etched binary optics element, is presented. |
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| Keywords: | fabrication errors computer simulation deep etch binary optics element experience formular |
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