| 驻波透镜聚焦原子束制作纳米图形研究 |
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| 引用本文： | 陈元培,陈旭南,李展,陈献忠. 驻波透镜聚焦原子束制作纳米图形研究[J]. 微纳电子技术, 2003, 40(7): 546-549,556 |
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| 作者姓名： | 陈元培 陈旭南 李展 陈献忠 |
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| 作者单位： | 中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209 |
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| 基金项目： | 中科院知识创新基金资助项目(A2K0009);微细加工光学技术国家重点实验室开放基金资助项目(KFS4) |
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| 摘 要： | 介绍了将激光驻波聚焦原子束技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性及像差，数值结果显示原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为10nm左右，可以实现纳米级超微细图形的制作。同时给出了实验装置及初步实验。
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| 关 键 词： | 驻波透镜 聚焦原子束 纳米图形 原子光学 原子光刻 透镜像差 |
| 文章编号： | 1671-4776(2003)07/08-0546-04 |
Study on making nano-patterns by atom standing wave lens |
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