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| 碳纳米管的薄膜场发射 | |
| 引用本文： | 张兆祥,张耿民,侯士敏,刘惟敏,赵兴钰,薛增泉.碳纳米管的薄膜场发射[J].真空科学与技术,2003,23(1):27-32. |
| 作者姓名： | 张兆祥 张耿民 侯士敏 刘惟敏 赵兴钰 薛增泉 |
| 作者单位： | 北京大学电子学系北京100871 |
| 摘 要： | 薄膜场发射特性是碳纳米管(CNT)研究的重要课题之一，它直接关系到CNT场发射阴极在将来的实际应用。本就CNT的场发射做一综合评述，主要涉及性能指标、结构模型、图形化方法和工艺等。 |
| 关 键 词： | 碳纳米管 薄膜场发射 制备工艺 场发射阴极 |
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