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硅衍射微透镜阵列的制作技术研究
引用本文:赖建军,赵悦,柯才军,周宏,易新建,翁雪涛,熊平.硅衍射微透镜阵列的制作技术研究[J].半导体光电,2005,26(Z1):106-110,114.
作者姓名:赖建军  赵悦  柯才军  周宏  易新建  翁雪涛  熊平
作者单位:1. 华中科技大学,光电子工程系,湖北,武汉,430074
2. 重庆光电技术研究所,重庆,400060
摘    要:介绍了二元光学方法制作多台阶衍射微透镜的设计和工艺过程;分析了台阶侧壁倾斜对衍射效率的影响;提出了一种基于软刻蚀技术的复制和集成新工艺.实际制作了8台阶硅衍射微透镜阵列,利用新工艺复制了硅衍射透镜阵列.

关 键 词:衍射微透镜  干法刻蚀  二元光学  软刻蚀  紫外模塑  衍射微透镜阵列  制作  技术研究  Array  Diffractive  Silicon  利用  新工艺  集成  复制  刻蚀技术  影响  衍射效率  台阶侧壁倾斜  分析  工艺过程  设计  二元光学方法
文章编号:1001-5868(2005)S-0106-05
修稿时间:2004年11月22日

Fabrication of Silicon Diffractive Microlens Array
LAI Jian-jun,ZHAO Yue,KE Cai-jun,ZHOU Hong,YI Xin-jian,WENG Xue-tao,XIONG Ping.Fabrication of Silicon Diffractive Microlens Array[J].Semiconductor Optoelectronics,2005,26(Z1):106-110,114.
Authors:LAI Jian-jun  ZHAO Yue  KE Cai-jun  ZHOU Hong  YI Xin-jian  WENG Xue-tao  XIONG Ping
Abstract:
Keywords:
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