盐酸胍对钌在含双氧水的二氧化硅水溶胶中化学机械抛光的影响

根据Zeta电势测量、极化曲线测量和原子力显微镜观察的结果,探讨了盐酸胍(GH)在Ru化学机械抛光(CMP)过程中的作用。结果表明:在pH=9的5%SiO_2+0.15% H_2O_2抛光液中,GH的添加可以大幅度提高钌的去除速率。当GH浓度为80 mmol/L时,钌的去除速率最佳。在相同浓度下,GH对Ru去除速率的提高效果优于KCl,皆因GH除了可以提升SiO_2颗粒对Ru表面的机械作用之外,还能加速Ru腐蚀。