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| 一种新型厌水性碳氟聚合物薄膜的制备 | |
| 引用本文： | 曾雪锋,岳瑞峰,吴建刚,胡欢,董良,刘理天. 一种新型厌水性碳氟聚合物薄膜的制备[J]. 仪器仪表学报, 2004, 25(Z1): 271-272 |
| 作者姓名： | 曾雪锋 岳瑞峰 吴建刚 胡欢 董良 刘理天 |
| 作者单位： | 清华大学微电子学研究所,北京,100084 |
| 基金项目： | 本文系清华大学基础研究基金资助项目(JC2003060). |
| 摘 要： | 利用ICP-CVD工艺制备出一种新型厌水性碳氟聚合物薄膜,并给出了制备薄膜的工艺参数.通过观测该薄膜的表面形貌和它与去离子水之间的接触角,结果表明,该薄膜均匀致密,与去离子水之间的接触角高达110°. |
| 关 键 词： | ICP-CVD碳氟聚合物 厌水材料 Teflon |
Deposition of New Hvdrophobic Films of Fluorocarbon Polymer |
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| Abstract: | |
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