首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

面向TiCl_4工业过滤的基础应用研究
作者姓名:吴国琳  杨军胜  王长青
作者单位:武汉轻工大学机械工程学院;
摘    要:详细介绍了TiAl金属间化合物多孔膜应用于TiCl_4工业过滤的基础研究。研究了终端过滤原理,考察了滤膜孔径和外加电压对TiCl_4过滤性能的影响,结果表明孔径为4μm的分离膜可适用于固含量为8.5%的粗TiCl_4分离提纯,当外加电压为7.5V时,过滤稳定周期最长,过滤速度衰减最慢,完全满足生产过滤要求。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号