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影响TA1钛合金电解质等离子抛光的关键因素研究
作者姓名:李思雪  孙桓五  杨冬亮  段海栋  纪刚强
作者单位:1. 太原理工大学机械与运载工程学院;2. 煤炭资源开采利用与装备工程国家级实验教学示范中心
基金项目:山西省重点研发计划项目(201903D121091);
摘    要:为了研究一种高效率、高质量的TA1钛合金植入物表面光整加工方法,在对TA1钛合金电解质等离子抛光过程中的电流-电压特性分析的基础上,研究工作电压、抛光液温度及抛光时间等关键因素对表面粗糙度和材料去除率的影响规律及作用机制,并对电解质等离子抛光前后试样表面的显微形貌、微观组织结构及硬度变化进行表征,验证该方法的有效性。研究结果表明,当工作电压为300和350 V时,采用电解质等离子抛光能够获得表面粗糙度值较小的表面,并且材料去除率随工作电压升高而降低;随抛光液温度升高,试样表面粗糙度增加,同时材料去除率降低;随抛光时间延长,试样表面粗糙度呈下降趋势;电解质等离子抛光后TA1钛合金结晶度提高,晶粒长大;电解质等离子抛光可去除TA1钛合金表面机械作用产生的加工硬化层,同时增强材料的塑性和韧性。

关 键 词:电解质等离子抛光  TA1钛合金  表面粗糙度  材料去除率  微观组织结构
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