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13~14 nm区类Ni氙跃迁X光激光器研究
引用本文:白光.13~14 nm区类Ni氙跃迁X光激光器研究[J].激光与光电子学进展,2002,39(8):20-26.
作者姓名:白光
作者单位:   
摘    要:1 引言目前正积极研究13~14nm区真空紫外激光振荡的可能性,因为在该波长区发展了反射率达到60%的多层膜反射镜的制造方法1~3]。该区较强激光可用于微光刻、X射线显微术和生物技术等。最近几年正在探讨建立真空紫外激光器的新实验途径。例如,研究了在脉宽0.9~10 ns、能量~0.7 J的Nd∶YAG激光抽运的所谓气体-喷团靶内1~22 nm区的强辐射4]。这种“光火花等离子体”源早在70年代初讨论过5]。目前它是为了在1~5nm区产生激光辐射的、形成不压缩、不消蚀等离子体的有前途的装置6]。P.V.Nickles等人提出了混合抽运源:毛细管放电形成类Ne…

关 键 词:13~14nm区  增益系数  类Ni氙跃迁  X光激光器
收稿时间:2002/1/19
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