| 浸没式ArF曝光过程中液体热性能分析 |
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| 引用本文： | 樊明哲,李艳秋.浸没式ArF曝光过程中液体热性能分析[J].微细加工技术,2007(3):13-17. |
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| 作者姓名： | 樊明哲 李艳秋 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院电工研究所,北京,100080;中国科学院研究生院,北京,100039
2. 中国科学院电工研究所,北京,100080 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;国家重点基础研究发展计划(973计划) |
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| 摘 要： | 浸没式ArF曝光系统在最后一面物镜和晶圆之间引入液体作为成像介质.曝光过程中,液体存在热分布变化,并引起液体折射率的改变,导致光刻性能下降,因此,有必要确定液体热分布变化的情况.应用有限元方法,建立二维模型,分析液体在不同进口压强下的温度分布,同时分析液体流入方向与晶圆移动方向异同情况下的液体温度分布.在此基础上,分析了晶圆上残留热量对液体热分布变化的影响.结果表明,不考虑晶圆残留热量,温度升高的最大值在0.15 K左右,温升厚度最大可达到0.4 mm;考虑晶圆残留热量的影响,温度升高最大值增加0.02 K左右,温升厚度最大可达到0.45 mm.
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| 关 键 词： | 浸没式ArF光刻 液体 热分布 有限元 |
| 文章编号： | 1003-8213(2007)03-0013-05 |
| 修稿时间： | 2006年12月19 |
Analysis of Thermal Properties of Liquid for Exposure in ArF Immersion Lithography |
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| FAN Ming-zhe,LI Yan-qiu.Analysis of Thermal Properties of Liquid for Exposure in ArF Immersion Lithography[J].Microfabrication Technology,2007(3):13-17. |
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| Authors: | FAN Ming-zhe LI Yan-qiu |
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