会聚光束中偏振匀滑的远场特性分析 |
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引用本文: | 耿远超,黄晚晴,李平,张颖,刘兰琴,粟敬钦.会聚光束中偏振匀滑的远场特性分析[J].光学学报,2023(20):175-184. |
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作者姓名: | 耿远超 黄晚晴 李平 张颖 刘兰琴 粟敬钦 |
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作者单位: | 1. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心;2. 中国工程物理研究院研究生院 |
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摘 要: | 靶点激光焦斑的偏振匀滑是激光聚变驱动器的关键技术。建立数学模型,对会聚光束中的偏振匀滑进行理论分析。指出该技术在光束远场纵向的匀滑效果,推导激光远场横向分离量和纵向分离量分别与偏振匀滑晶体厚度和倾斜角度的关系。通过数值模拟,给出了激光远场焦斑形态参数与晶体参数之间的关系曲线。结果表明,当晶体厚度和偏转角度取特定范围时,焦斑可以得到最佳的匀滑效果。
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关 键 词: | 激光聚变装置 惯性约束聚变 偏振匀滑 焦斑整形 会聚光束 |
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