电化学沉积DLC和CNx薄膜的微观形貌比较 |
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引用本文: | 陈刚,阎兴斌,刘惠文,徐洮. 电化学沉积DLC和CNx薄膜的微观形貌比较[J]. 电子显微学报, 2004, 23(4): 430-430 |
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作者姓名: | 陈刚 阎兴斌 刘惠文 徐洮 |
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作者单位: | 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(No.50323007)(No.50172052)、国家863项目(No.2003AA305670)和国科学院百人计划资助项目. |
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摘 要: | 类金刚石碳膜(简称DLC)是一类具有高硬度、化学惰性、低介电常数、宽光学带隙等特点的非晶碳膜,在机械、电子、化学等领域具有广阔的应用前景。类金刚石碳膜(DLC)中掺入氮元素的主要目的有两个:一是寻求人工合成β-C3N4超硬化合物的可能性,二是对类金刚石碳膜进行掺杂,以改善其
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关 键 词: | 类金刚石碳膜 电化学沉积法 氮掺杂 微观形貌分析 原子力显微镜 |
Comparative study on micromorphology of DLC and CNx films by electrochemical deposition |
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Abstract: | |
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