| 电弧离子镀AlCrN沉积层初期氧化形貌、组构及反应机制 |
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| 引用本文： | 李月巧,李伟洲,梁天权,胡治流,孙超.电弧离子镀AlCrN沉积层初期氧化形貌、组构及反应机制[J].材料保护,2010,43(12). |
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| 作者姓名： | 李月巧 李伟洲 梁天权 胡治流 孙超 |
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| 作者单位： | 广西大学有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,广西,南宁,530004;广西大学有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,广西,南宁,530004;中国科学院金属研究所表面工程部,辽宁,沈阳,110016;中国科学院金属研究所表面工程部,辽宁,沈阳,110016 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，广西科学基金资助项目，广西大学科研基金 |
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| 摘 要： | 为了弄清AlCrN涂层在高温环境中的抗氧化机制,采用电弧离子镀技术制备了AlcrN涂层,对真空退火和短时氧化处理后的沉积层采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分析和元素成分(EDS)进行了观察和分析.结果表明:真空退火处理的沉积层中CrN相逐渐转变为Cr2N,并释放出N2;在900,1000℃下氧化1～5 h,沉积层中部分Cr2N与O2反应生成Cr2O3,此时涂层的物相以Cr2N和Cr2O3为主,并含少量CrAlN相;氧化至10 h,沉积层表面生成以Cr2O3和Al2O3为主的氧化膜,此氧化膜的生成有利于涂层抗氧化性能的提高.
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| 关 键 词： | 电弧离子镀 AlCrN沉积层 初期氧化 真空退火 |
Morphology, Microstructure and Reaction Mechanism of Arc-Ion Plated AlCrN Coating at Initial Oxidation Stage |
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| LI Yue-qiao,LI Wei-zhou,LIANG Tian-quan,HU Zhi-liu,SUN Chao.Morphology, Microstructure and Reaction Mechanism of Arc-Ion Plated AlCrN Coating at Initial Oxidation Stage[J].Journal of Materials Protection,2010,43(12). |
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| Authors: | LI Yue-qiao LI Wei-zhou LIANG Tian-quan HU Zhi-liu SUN Chao |
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