| 纳秒脉冲激光熔覆温度场计算及薄膜飞溅机制分析 |
| |
| 引用本文： | 张永彬,宾韧,郎定木.纳秒脉冲激光熔覆温度场计算及薄膜飞溅机制分析[J].应用激光,2012(6):464-468. |
| |
| 作者姓名： | 张永彬 宾韧 郎定木 |
| |
| 作者单位： | 表面物理与化学重点实验室;中国工程物理研究院 |
| |
| 基金项目： | 中国工程物理研究院发展基金资助项目(项目编号:20100203027) |
| |
| 摘 要： | 实验上采用磁控溅射在铀、不锈钢、铝基底上分别沉积钼、铌、铝等薄膜后采用纳秒激光熔覆,薄膜发生飞溅,未能形成熔覆层。针对这一问题,采用有限元方法分析了脉冲激光作用的温度场,并对瞬时热膨胀造成薄膜垂直于表面的运动进行了分析。计算以及分析结果表明:由于界面热阻,纳秒激光熔覆薄膜与基底存在较大的温度差,在本例计算铝薄膜与基底温差超过450℃。瞬时热膨胀导致薄膜具有向外的速度以及动能。当薄膜动能大于拉伸断裂所需要克服的弹性以及塑性变形能量,薄膜将发生飞溅。理论分析还表明存在一个临界的光束尺寸,当光束小于该尺寸,薄膜不会发生飞溅,熔覆能够发生,对于准分子激光,光束尺寸达微米量级薄膜不会飞溅。
|
| 关 键 词： | 激光 温度场 熔覆 机制 |
Calculatation for Nano-Second Pulsed Laser Cladding Temprature Field and Analysis of Thin Film Removal Mechanism |
| |
| Zhang Yongbin,Bin Ren,Lang Dingmu.Calculatation for Nano-Second Pulsed Laser Cladding Temprature Field and Analysis of Thin Film Removal Mechanism[J].Applied Laser,2012(6):464-468. |
| |
| Authors: | Zhang Yongbin Bin Ren Lang Dingmu |
| |
| Affiliation: | 1Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory,P.O.Box 718-35,Mianyang,Sichuan 621907,China;2Academy of Engeering Physics,Mianyang,Sichuan 621900,China.) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
|
