| 溶胶-凝胶SiO2减反膜的制备与光学性能研究 |
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| 作者姓名： | 沈斌 张旭 熊怀 李海元 谢兴龙 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院上海光学精密机械研究所,高功率激光物理重点实验室;2. 中国科学院大学材料与光电研究中心 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(12074399)；;中国科学院战略性先导科技专项A类(XDA25020305)~~； |
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| 摘 要： | 碱催化溶胶-凝胶多孔SiO2减反膜具有优异的光学性能及抗激光损伤性能,是高功率激光装置中的重要组成部分,但其与光学元件之间的结合强度低,使得膜层易发生接触破坏。本研究以“神光II”高功率激光装置溶胶-凝胶多孔SiO2减反膜为基础,通过提拉法在其表层涂覆致密的SiO2薄层后得到机械强度提升的双层SiO2减反膜(SiO2-MTES),并与常用的单层氨固化SiO2减反膜(SiO2-HMDS)进行相关应用性能的综合比较。结果表明,涂覆SiO2-MTES的熔石英在约800 nm处的峰值透过率大于99.6%,运用1-on-1激光损伤阈值测试方法测得该双层SiO2减反膜的零几率激光损伤阈值为51.9 J/cm2(1064 nm, 9.1 ns),与涂覆SiO2-HMDS的性能相当。同时, SiO2-MTES膜层与水的接触角达到117.3°,...
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| 关 键 词： | 溶胶-凝胶 减反膜 SiO2 机械强度 |
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