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低温共烧陶瓷多层基板精细互连技术
引用本文:徐志春,成立,李俊,韩庆福,张慧,刘德林.低温共烧陶瓷多层基板精细互连技术[J].半导体技术,2007,32(7):629-633.
作者姓名:徐志春  成立  李俊  韩庆福  张慧  刘德林
作者单位:江苏大学,电气与信息工程学院,江苏,镇江,212013
基金项目:江苏省高校科研成果产业推进工程计划项目
摘    要:微电子技术和封装工艺的发展使超大规模集成电路(VLSI)的密度越来越高,而高密度低温共烧陶瓷(LTCC)基板的制作依赖于基板内部导体的精细互连技术.为了满足LTCC多层基板高密度互连的工艺要求,必须使基板微通孔的直径及导线线宽缩小到100 μm以内.基于此,首先介绍了LTCC生瓷带层的微通孔形成与填充工艺,以及所形成的微通孔的特点;利用厚膜丝网印刷技术形成精细导线,分析了影响印刷质量的工艺参数;最后简要介绍了薄膜光刻等新技术.通过应用上述几种先进的精细互连工艺技术,极大地提高了LTCC多层基板的互连密度.

关 键 词:高密度互连  低温共烧陶瓷  微通孔  通孔填充  丝网印刷
文章编号:1003-353X(2007)07-0629-05
修稿时间:2006-12-30

Fine Interconnection Technologies for Multilayer LTCC Substrates
XU Zhi-chun,CHENG Li,LI Jun,HAN Qing-fu,ZHANG Hui,LIU De-lin.Fine Interconnection Technologies for Multilayer LTCC Substrates[J].Semiconductor Technology,2007,32(7):629-633.
Authors:XU Zhi-chun  CHENG Li  LI Jun  HAN Qing-fu  ZHANG Hui  LIU De-lin
Affiliation:Institute of Electricity and Information, Jiangsu University, Zhenfiang 212013, China
Abstract:
Keywords:high-density interconnect  LTCC  micro-via  via fill  screen printing
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