离子轰击对光学薄膜吸潮的阻止作用

用3KeV氧离子轰击制得的薄膜能阻止由TiO_2和SiO_2材料制的光学滤光片的吸潮和解吸。对ZrO_2和SiO_材料制的滤光片没有发现上述现象。我们认为阻止作用主要是由于当TiO_2表面膜材由晶态转变成非晶态时表面膨胀所致。ZrO_2膜层经轰击后则进一步晶格化,故未观察到类似作用。本文介绍了实验和结果,并讨论了阻止作用的不同解释。