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| PET衬底上ITO薄膜的制备及光电性能 | |
| 引用本文： | 杨 坤,胡志强,徐书林,等.PET衬底上ITO薄膜的制备及光电性能[J].材料工程,2014(3):71-76. |
| 作者姓名： | 杨 坤 胡志强 徐书林 等 |
| 作者单位： | 大连工业大学新能源材料研究所;锦州新世纪石英(集团)有限公司; |
| 基金项目： | 国家(863)高技术研究发展计划资助项目(2006AA05Z417);大连市科技平台建设项目(2010-354) |
| 摘 要： | 用脉冲磁控溅射法在柔性衬底聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,研究了溅射气压、时间和衬底温度等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响,并采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对薄膜的物相结构与表面形貌进行了分析。结果表明:薄膜的平均晶粒尺寸随衬底温度的升高而增大;当溅射时间增加时,方块电阻与光透过率均减小;当衬底温度升高时,方块电阻减小,可见光透过率增大。 |
| 关 键 词： | 脉冲磁控溅射 氧化铟锡薄膜 PET |
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