| 电解质等离子抛光表面粗糙度随时间变化规律 |
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| 引用本文： | 王季,索来春,关丽丽,付宜利. 电解质等离子抛光表面粗糙度随时间变化规律[J]. 哈尔滨工程大学学报, 2013, 0(2): 227-232 |
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| 作者姓名： | 王季 索来春 关丽丽 付宜利 |
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| 作者单位： | 哈尔滨工业大学机电工程学院;哈尔滨工业大学理学院 |
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| 基金项目： | 国际科技合作资助项目(2009DFR70110) |
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| 摘 要： | 表面粗糙度是衡量抛光效果的最主要标准.依据电解质等离子抛光机理建立表面粗糙度随时间变化的数学模型,实验得出一定条件下经过不同的抛光时间之后试件表面的实际粗糙度值,用这些实验数据和数学模型进行非线性拟合,并根据拟合结果对数学模型进行了修正.修正后的数学模型与实验数据的拟合程度很好,校正可决系数达到了0.97139.在不同的抛光液温度下,又进行了2组实验,验证了修正后的数模模型与实际抛光时的情况基本一致.
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| 关 键 词： | 电解质 等离子粗糙度 抛光时间 数学模型 |
Regularity of surface roughness with polishing time in electrolysis and plasma polishing |
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| WANG Ji,SUO Laichun,GUAN Lili,FU Yili. Regularity of surface roughness with polishing time in electrolysis and plasma polishing[J]. Journal of Harbin Engineering University, 2013, 0(2): 227-232 |
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| Authors: | WANG Ji SUO Laichun GUAN Lili FU Yili |
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| Affiliation: | 1(1.School of Mechatronics Engineering,Harbin Institute of Technology,Harbin 150001,China;2.School of Science,Harbin Institute of Technology,Harbin 150001,China) |
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