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第三节 常见氧化物膜目前研究最多的氧化物膜可谓二氧化硅和二氧化钛膜 ,这两种薄膜也是接受呈色离子、制备彩色镀膜常用的基体膜 ,所以 ,有必要将它们单独列出 ,加以讨论。1 二氧化钛膜在所有高折射率材料中 ,由钛的化合物制备的氧化物膜具有特殊的实际意义。因此 ,对二氧化 相似文献
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玻璃表面装饰技术(四)王承遇,陶瑛(大连轻工业学院玻璃及无机材料研究所116001)(8)离子镀法是蒸发法与溅射法相结合的一种新方法。1938年Berghaus最先研制,并获专利,1963年Mattox对此法进行了改进,并用于生产。我国80年代开始应... 相似文献
4.
中频反应溅射SiO2膜与直流溅射ITO膜的在线联镀 总被引:2,自引:2,他引:0
多数ITO透明导电玻璃生产线在实现SiO2膜与ITO膜在线联镀时,应用SiO2靶射频溅射沉积SiO2膜工艺和ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺,如果SiO2膜应用硅靶反应磁控溅射工艺,存在这种工艺是否可以与ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺在线联用以及如何实现联用的问题。作者对现有的生产线进行了改造设计、加工,做了大量实验、质谱分析和多项测试研究,成功地实现反应溅射SiO2膜与ITO膜在线联镀,做到SiO2镀膜室的工作状态的变化基本上不影响ITO镀膜室的工艺条件。 相似文献
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本文根据目前国内多弧离子镀设备的生产和应用情况提出了一种新的观点。对可组合的双镀膜室多弧离子镀膜设备进行了初步的探讨 相似文献
7.
讨论了真空蒸镀镀膜的形成和镀膜与基体的结合力.认为影响膜层结合力的因素包括有镀件基材、膜料材质、环境条件、所用机器设备、以及工艺参数如真空度、蒸发温度、镀距、镀件温度等. 相似文献
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同轴式磁控溅射离子镀膜机是磁控溅射和离子镀膜相结合的一种镀膜设备。从不小于1.5×2m 大面积基底上所镀膜层的均匀性和实际应用的可行性来看,是一种较好的成膜手段。1.国内现状目前国内生产蒸发式镀膜设备的厂家不少。这种方法是以高纯铝丝或铁铬镍合金丝等作为膜材,在大面积上镀镜或镀建材玻璃膜。普遍认为蒸发膜存在着如下问题: 相似文献
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掺锡氧化铟膜在二次表面镜上的应用 总被引:2,自引:0,他引:2
掺锡氧化铟膜(ITO 膜)是一种具有良好导电性能,在太阳光谱区有很高光学透过率和抗辐照的涂层,它还具有硬度高、耐磨损等特点;这种涂层在航天器上已有很广泛的应用。我们采用磁控溅射新工艺,将 ITO 膜用作为二次表面镜(SSM)前表面的抗静电防护层。给出 SSM 用 ITO 膜的制备工艺及其对膜的光、电性能的影响,还给出 ITO 膜对 SSM 光(热学性能影响的研究结果,提出了 SSM 用 ITO 膜的设计要求和相关的制备工艺。 相似文献