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1.
2.
3.
一种微透镜阵列的研制   总被引:1,自引:0,他引:1  
杨修文  祝生祥  谢红  路素彦 《光电子技术》2003,23(3):170-172,181
介绍一种利用表面张力的作用、以光纤作材料、用分离的自聚焦透镜制作微透镜阵型的方法,这种方法具有制作工艺简单、无须昂贵设备等优点,用此方法实际制作了具有良好连续面型的微透镜阵列,并对制作的微透镜阵列进行了测试,效果较好。  相似文献   
4.
5.
蒋式弘  陈明仪 《电子学报》1997,25(2):103-106
本文在条状屏彩色显象管校正透镜设计的基础上,提出了蹼状屏彩色显示管校正透镜的优化设计方法并给出了设计实例,通过计算机模拟电子束轨迹和光线追迹,分析了校正透镜面型修正程序的精度。  相似文献   
6.
孙振东  吴庚生 《激光杂志》1995,16(3):109-112
根据理论假设,通过选取单透镜的参数和位置,计算说明了单透镜使经由多模光纤出射的大功率Nd:YAG激光束的发射角压缩,光束聚焦效率提高,光束截面场为高斯分布;文中的计算结果符合已知规律,从而说明了理论假设的正确性。  相似文献   
7.
本文研究短程透镜的焦点位于端面外的球差特性。对焦点位于波导外部(包括端面)的情况给出了一种精确测量焦距新方法,采用这种方法简单易行,测量精度取决于读数显微镜的读数精度(0.01mm)。  相似文献   
8.
UV-LIGA深度光刻机平滑衍射技术研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
UV-LIGA深度光刻技术是加工微型机电系统的一项重要的微细加工技术。介绍了一种平滑衍射效应的位错强度叠加原理,它采用了蝇眼积分透镜去平滑衍射,并模拟数值计算了硅片表面的光强分布,最后给出了光刻结果。  相似文献   
9.
讲述了参观Semicon/west94′展览会及考察美国和西德的5个公司、1所大学所了解到的投影光刻技术、电子束曝光技术、透镜面形测试技术的发展。  相似文献   
10.
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