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1.
采用超高真空电子束蒸发法制备了新型高 K栅介质-非晶 ZrO2薄膜. X射线光电子能谱 (XPS) 中 Zr3d5/2 和 Zr3d3/2 对应的结合能分别为 182.1eV和 184.3eV, Zr元素的主要存在形式为 Zr4+,说明薄膜由完全氧化的 ZrO2组成 ,并且纵向分布均一.扩展电阻法( SRP)显示 ZrO2薄膜的 电阻率在 108Ω@ cm以上,通过高分辨率透射电镜( HR- XTEM)可以观察 ZrO2/Si界面陡直,没有 界面反应产物 ,证明 600℃快速退火后 ZrO2薄膜是非晶结构.原子力显微镜( AFM)表征了薄膜的 表面粗糙度,所有样品表面都很平整,其中 600℃快速退火样品 (RTA)的 RMS为 0.480nm.  相似文献   
2.
大块非晶合金的性能、制备及应用   总被引:4,自引:0,他引:4  
综述了大块非晶合金的性能、制备方法及应用,对比了吸铸法制备的棒状Zr41.2Ti13.8Cu12.5Ni10Be22.5,Zr57Cu20Al10Ni8Ti5,Zr52.5Ti5Cu17.9Ni14.6Al10(原子分数)大块非晶样品的过冷温度区间宽度(△Tx),给出了3种大块非晶合金系列的热稳定性参数Tg、Tx及△Tx,提出了大块非晶合金领域存在的问题及发展方向.  相似文献   
3.
粉镀(渗)锌技术及其工业应用   总被引:2,自引:0,他引:2  
概述了粉镀(渗)锌专利技术的开发概况、工艺原理及渗镀层性能特点,并与热镀锌做了比较,对其产品检验、使用范围等也作了介绍。  相似文献   
4.
生产搪资制品中的一个迫切问题是保护镍铬合金加热元件和焙烧器件免受高温腐蚀,为此研制出一系列玻璃釉质镀层成分,然而在镍铬合金工业生产中它们并没有被采用。  相似文献   
5.
Protective behavior of organic coatinge of alkyd,epoxy,urethane and siloxance applied to silver solar cell interconnects and erosion of Ag were investigated by exposure experiments to ground simulation atomic oxygen(AO).Evaluations of their protective properties were made through assessing their mass cfhange characteristics,chemical and physical changes to Ao attack.The specimens,after exposure were analyzed with SEM/EDAX and XPS.The results indicated that the silver is heavily etched.some coatings such as epoxy,alkd,urethane are seriously degraded or removed as volatile oxides and morphology of coatings changes.It is evident that siloxane coatings have excellent properties for anti-AO attack.The erosion product consists of silicon dioxide layer of compact texture and is left on the surface to provide adequate protection fro further attack by the energetic AO.  相似文献   
6.
7.
非晶态Fe—Ni—Cr合金的电沉积优化新工艺   总被引:1,自引:0,他引:1  
  相似文献   
8.
本文研究了具有典型分解特征的Al-Zn-Ce非晶合金的形成和晶化过程,探讨了各种相的生成顺序。XRD和DSC测试结果表明强烈的化合物短程序有利于Al-Zn-Ce非晶合金的形成。在Al-Zn-Ce非晶合金的晶化过程中存在复杂的相选择行为,多种相的竞争形核和有限生长使其具有复杂的结构特点。同时,结果也表明冷速对该体系非晶的形成有很大影响。  相似文献   
9.
用正电子湮没多普勒展宽能谱测量和分析了若干急冷淬火制备的薄带,表明软磁Fe基纳米晶合金中的缺陷(自由体积)远多(大)于其晶化前的非晶态;能够晶化成纳米晶的Fe基非晶制备态材料中的缺陷也多(大)于类似成分但又不能晶化成纳米晶的非晶态材料中的缺陷;Fe73.0Cu1.0Nb1.5Mo2.0Si13.5b9.0合金的急冷淬火制备态在热处理过程中,低温退火时缺陷减少,高于200℃的退火导致缺陷增加,纳米晶化后的进一步退火缺陷基本不增加;Fe73.0Cu1.0Nb1.5Mo2.0Si13.5B9.0合金纳米晶化后,在所选定的测量条件下没有发现正电子湮滑参数时间,温度的变化,说明该材料缺陷结构相当稳定。  相似文献   
10.
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