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1987年 | 3篇 |
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1.
父亲与新生儿乙型肝炎病毒传播感染方式调查 总被引:2,自引:0,他引:2
目的了解乙型肝炎病毒(HBV)感染父亲的新生儿群体中,HBV的感染和流行情况。方法筛选230名慢性HBV感染的父亲而母亲则无乙型肝炎病毒标志物(HBVM)的新生儿为研究对象,进行HBVM测定,另一组父母均无HBV感染标志的新生儿为对照组。结果44名新生儿血清HBV DNA阳性(阳性率为19.13%),测其含量为(6.851±2.317),其中40名父亲的血清HBV DNA含量为(7.345±1.572),两者之间经统计学分析无数量上的相关关系。结论HBV感染男性其子代中有较高的HBV感染率,提示HBV可以通过父婴垂直传播方式传染给新生儿。父亲与新生儿血清HBV DNA复制水平无相关性。 相似文献
2.
目的探讨先兆流产时绒毛及蜕膜组织中细胞外基质金属蛋白酶诱导因子(EMMPRIN)的表达情况。方法选取30例妊娠早期发生先兆流产的妇女,30例自愿行负压吸引术终止妊娠的早期正常妊娠妇女,在获取绒毛及蜕膜组织后应用免疫组织化学技术对EMMPRIN进行检测。结果(1)先兆流产组绒毛表达的EMMPRIN强于正常妊娠组,且增强部位为细胞滋养层柱细胞与合体滋养细胞。(2)EMMPRIN在先兆流产组、正常妊娠组蜕膜组织中均呈阳性表达,且二者表达的EMMPRIN无明显差异。结论发生先兆流产时合体滋养细胞、细胞滋养层柱所表达的EMMPRIN增强可能通过上调绒毛及蜕膜组织中基质金属蛋白酶(MMPs)的水平,降解细胞外基质(ECM),使绒毛剥离、蜕膜组织剥脱。 相似文献
3.
4.
<正> 六、部分托牙的实验室制作——蜡形部分本讲以高熔合金(钴铬合金)制作部分托牙支架的精密铸造工艺为重点。系统地介绍设备、材料及操作工艺等。部分托牙的蜡型制作技术和包埋铸造抛光工艺等两部分介绍如下:A、蜡型的制作技术:首先论述石膏模型与蜡型之关系,翻制复制模的材料及其蜡型的制作:蜡型脱模法的制作要领等。1.石膏模型:要制作一付理想的部分托牙除了合理的临床设计外技术制作是非常重要的,模型是基础 相似文献
5.
<正> 3.(牙合)支托:功能是支持及传导咀嚼压力至基牙上,提高生理性咀嚼效能,防止食物嵌入,改善(牙合)关系,并能起到间接固位体的作用。(牙合)支托对基牙和部分托牙都有较大影响。不良的(牙合)支托可以使基牙磨耗、松动,使部分托牙下沉,引起牙龈炎以及牙槽萎缩等症状,因而(牙合)支托有一定的形态和设计上的要求:(1)(牙合)支托的位置:设计于缺牙近旁的基牙(牙合)面边缘脊处。依照基牙(牙合)情况,可将(牙合)支托移至基牙的舌侧(牙合)面上,也可将(牙合)支托设计于更多的基牙上,以利分散咀嚼压力。但由于(牙合)支托增多,则操作复杂。因此合理地设计(牙合)支托,并对称性地放置基牙上。 相似文献
6.
目的:观察卡托普利联合低分子肝素治疗肾病综合征的临床效果。方法选择本院收治的68例肾病综合征患者为研究对象。对照组30例患者,给予常规治疗28 d;观察组38例患者,在常规治疗的基础上给予卡托普利联合低分子肝素治疗28 d。观察并比较两组患者治疗前后胆固醇、三酰甘油、肌酐、清蛋白、尿蛋白、全血高切黏度、全血低切黏度、血浆黏度、血浆纤维蛋白原、血细胞比容等指标变化情况。结果观察组治疗总有效率达92.1%,明显高于对照组的83.3%,比较差异有统计学意义( P<0.05)。治疗28 d后,观察组胆固醇、三酰甘油、尿蛋白、全血黏度、血浆黏度、血浆纤维蛋白原、血细胞比容等指标明显低于对照组,比较差异有统计学意义(P<0.05)。结论在常规治疗的基础上加用卡托普利联合低分子肝素治疗肾病综合征,可明显提高疗效,改善肾功能及高凝状态,值得临床推广应用。 相似文献
7.
目的:探讨自我管理小组对社区精神分裂症患者的生活质量的影响.方法:选择60例符合入组标准的精神分裂症患者随机分成干预组和对照组各30例,干预组接受健康自我管理小组干预,每周1次,共13次,对照组接受公共卫生常规随访服务.所有研究对象均接受前后测评估,采用精神分裂症患者生活质量量表(SQLS)进行评定.结果:经过13次自... 相似文献
8.
乙型肝炎病毒父婴传播的流行情况研究 总被引:5,自引:0,他引:5
目的:了解乙型肝炎病毒(HBV)感染父亲的新生儿群体中,HBV的感染和流行情况。方法:对230例慢性HBV感染的父亲和母亲HBV标志物(HBVM)阴性的新生儿进行HBVM测定,另一组无HBV感染的父亲和母亲的新生儿为对照组。结果:44名新生儿HBV DNA阳性(阳性率19.1%),对照组阴性。结论:HBV感染的男性其子代中有较高的HBV感染率,HBV可通过父婴垂直传播给新生儿。 相似文献
9.
10.
<正> 八、部分托牙的实验室制作——抛光焊接部分抛光——高熔合金铸件的抛光是一件比较复杂的工作。因为部份托牙的金属支架几何形状复杂硬度大,对抛光增加了一定的困难。为了使高熔合金的抛光打磨手续简化,除了对蜡形;包埋铸造的严格要求外。铸件的抛光同前大致有两种方法。其一手工机械打磨抛光;其二电化学抛光。前者抛光后表面光泽易退化。凡经过电化学抛光的支架表面光亮度是不易减退的. 抛光程序——去除内外层包埋料→喷砂去除暂留包埋料和表面氧化层→切割铸造→修整切割面→去除局部小瘤子→金刚砂布打磨→金相砂纸打磨→氧化铬抛光或电化学抛光→擦洗金属支架表面→按放在模型上。 相似文献