有机太阳能电池的研究进展

作为一种成本低廉、工艺简单、可柔性加工的储能器件技术,有机太阳能电池已经成为新型太阳能电池领域的重要发展方向。解决活性层材料的设计、入射光调控结构的应用及传输层界面的修饰问题,提升光电转化效率是目前有机太阳能电池的研究热点。综述了有机太阳能电池的研究进展,包括有机太阳能电池的设计与制备、界面缓冲材料设计及给体/受体材料改性研究,并展望了有机太阳能电池未来的发展方向。     

5E-MACⅢ红外快速煤质分析仪恒温时间的探讨

介绍煤中灰分的来源及测定意义。通过对长沙开元公司5E-MACⅢ红外快速煤质分析仪恒温时间的改进,以降低人力、物力、能耗的浪费。     

半导体材料加工过程的化学方法应用

在半导体材料的加工过程中,很多重要步骤都涉及到了化学作用,讨论了半导体材料加工过程中化学缓蚀、化学机械抛光和清洗步骤的化学作用原理,介绍了从化学角度分析和优化半导体加工工艺的观点。     

絮凝剂的种类之浅谈

絮凝剂技术是国家“863”和“九五科技攻关”重点项目。污泥固液分离中絮凝工艺对污泥分离的前处理起着重要的作用,絮凝效果的好坏往往决定了后续流程的运行状况、最终出水水质和费用。按其化学成分,絮凝剂可分为无机盐类絮凝剂、有机高分子絮凝剂和微生物絮凝剂。     

地铁隧道大粒径砂卵石地层暗挖工法快速施工技术

北京地铁九号线某区间采用暗挖工法施工。区间沿造甲街和丰台东大街下方设置,整体呈南北走向,隧道覆土10-19．5m。区间隧道主要穿越地层为卵石⑤、⑦层,卵石含量高、强度大、粒径大,结构松散、无胶结。区间上方地下管线众多。     

抛光片IPA干燥技术研究

以Marangoni效应为基础的IPA干燥技术在衬底抛光片的干燥中遇到了瓶颈,即干燥后出现水痕缺陷。Marangoni干燥过程中,抛光片表面的水符合重力场下的杨方程模型,其脱离效果与晶片提拉速率和IPA流量密切相关。研究中发现,IPA流量在20L／min、提拉速率在lmm／s时干燥效果最佳;另外,Marangoni干燥过程不能完全去除晶片底部的残水．需要营造合适的蒸发环境,减压排风下供给适量的IPA蒸汽有助于底部残水的去除。晶片与花篮在干燥过程中有相互影响,完全分离的模式可以消除这种影响,但同时会使干燥时间增长。     

第七次国际泥炭会议情况

第七次国际泥炭会议1984年6月18—23日在爱尔兰都柏林举行,6月14—17日按排了会议前参观,有三条路线,分别参观生态和泥炭地保护、泥炭地育林、泥炭生产。18日上午会议开幕,25个国家394位代表出席了会议,由爱尔兰付总理、能源部长Dick Spr-     

晶片表面Haze值研究

介绍了晶片表面Haze值的定义和理论依据,通过对SSIS系统的原理分析,揭示了Haze是一种间接反映晶片表面状态的光学信号。通过对不同表面状态抛光片的光学扫描,研究了晶片表面粗糙度与Haze值的关系;通过对Si抛光片和砷化镓抛光片的扫描对比,研究了晶片本体反射系数对Haze值的影响。研究结果表明,同种材料的Haze值随着表面粗糙度的增大而增大,而不同的材料即使拥有相似的表面粗糙度,Haze值也会因本体反射系数的不同而呈现很大差异。通过对Haze扫描图的特征分析,研究了Haze值分布与晶片表面均匀性的关系,成功地利用Haze值分布将表面性状化,为化学机械抛光和湿法清洗工艺提供了一个新的反馈手段。     

卡塞格伦天线的二次赋形设计

本文利用栅格相位的优化对传统的赋形天线进行二次设计,把这两种方法很好的结合在一起,给出一种改进的设计方法.本方法主要利用传统的赋形方法为相位优化提供更简单的方式,提出利用"最优波程"来实现.最优波程的提出使得两种方法结合更加严密,形成一个整体.     

抛光工艺对GaAs抛光片粗糙度的影响

研究了化学机械抛光过程中抛光布、抛光液中SiO2溶胶粒径、pH值以及清洗工艺对GaAs抛光片表面粗糙度的影响,为降低粗糙度而保持一定的抛光速率,应尽量采用多步抛光的方式,逐步降低抛光布的硬度和SiO2溶胶粒径,抛光液的pH值也要在合适的范围。因臭氧水的清洗工艺不会增加粗糙度,不失为一种控制GaAs抛光片表面粗糙度的有效方法。