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1.
尽管对人类蛋白质组的最终完成目标存在不同的意见,但第一步要绘制完整人类基因组所表达的全部蛋白质谱,似乎没有太多的争议.人类蛋白质组的表达谱绘制遇到了在1993和1994年人类基因组测序计划同样的问题,科学家们在注重最后能达到的成就时忽略了所采取的手段.事实上,如果不是解决了96道毛细管电泳测序技术,现在测序计划只可能完成了一部分.同样,目前的绘制表达谱的计划也面临着类似的技术平台上不成熟的情况. 相似文献
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EDT毛化轧辊表面凹坑形成过程 总被引:2,自引:0,他引:2
针对轧辊表面电火花毛化过程中放电中心温度的变化、凹坑形状与电参数的关系等问题进行了研究.通过分析放电通道形成过程和热流密度分布函数,采用解析法建立了单个脉冲放电通道的热传导模型,并运用积分变换法和有限差分相结合的方法进行了温度场求解.讨论了轧辊表面在不同峰值电流下放电区域中心位置的瞬态温度变化,确立了峰值电流和脉冲宽度与熔化凹坑形状的关系.结果表明,理论计算值与实验结果相吻合,所建模型与采用的方法正确,可用于轧辊表面形貌形成过程的仿真. 相似文献
3.
提出了1种判别标记肽假阳性的方法,根据同位素分布的概率原理计算出不同标记效率下的理论同位素分布,利用最小二乘法拟合得到标记肽的标记效率,根据标记肽的假阳性阈值来判断标记肽的假阳性,并使用本方法判断了比较蛋白质组试验中的3个标记肽,结果表明,在这3个标记肽中有2个阳性标记肽结果,1个假阳性标记肽,说明此方法简单可靠,可用于判定标记肽的假阳性,衡量标记肽和正常肽之间的相似性,判断质谱峰型的变化,排除标记肽假阳性对蛋白质定量的影响. 相似文献
4.
非线性电阻限制10 kV电网弧光接地过电压分析 总被引:1,自引:0,他引:1
以贵州某变电站10kV电网为例,用电力系统电磁暂态程序(EMTP)对中性点不接地和经非线性电阻接地2种情况下的弧光接地过电压进行了计算、分析和比较.结果表明,中性点经非线性电阻接地方式基本保留了中性点经小电阻接地和中性点不接地2种方式的优点,既能很好地限制弧光接地过电压,又能使单相接地时供电不中断,保障了电网供电可靠性.可以认为中性点经非线性电阻接地是一种新型的中性点接地方式,有待于进一步的分析和研究. 相似文献
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齿轮滚刀国家新标准规定:滚刀齿侧面上齿形精度合格部分长度应不小于全齿长的1/2,本文就解决这一生产实际问题,研究了滚刀的铲磨原理,建立了控制齿形合格长度的数学模型,提出计算铲磨砂轮廓形的方法。其特点是精度高、程序简单,本文所提出的增加齿形合格长度的工艺方法,经广东韶关工具厂试验验证,精度可靠,操作方便,齿形精度可达到国标AA级。 相似文献
6.
研究川西地区可能控制火山岩相带的深大断裂以及火山岩的分布范围、深度等基础问题。利用最新大比例尺重磁资料,对数据进行斜磁化、剩磁处理和场源分离,采用物性反演方法进行反演,利用互相关系数和深度加权函数同时进行自约束,引入迭代正则化的LSQR法求解大型离散不适定问题以节省计算成本;采用正演模拟计算并确定了重磁资料主要解决的相关地质问题,即重力数据主要用于解译测区内具有密度差异的断裂构造,磁测数据主要用于预测火山岩;有针对性地采取响应的定性分析或三维反演成像,综合解译深层断裂构造、预测火山岩分布范围和埋深,并且根据已施工钻井对解译成果进行评价。火山岩埋深预测结果的最小相对均方误差仅0.86%,绝大多数情况下小于10%;重力资料能更好地反映深大基底断裂,而磁测资料对于火山岩的反应更为明显。 相似文献
7.
轴向移位变凸度四辊轧机的辊型设计 总被引:13,自引:2,他引:13
板材轧机上一对带特殊辊型的工作辊轴向相对移动时,可改变辊缝凸度,调节板形。通过对这类辊型的研究,特别是对三次辊型的研究和CVC辊型的破译,给出了确定辊型参数的方法,并指出了CVC辊型和UPC辊型的区别及应用范围。 相似文献
8.
科普作家的创造性劳动对造就有生命力的科普作品具有巨大作用.人类科学技术精彩纷呈的飞跃进步需要我们用心去表达去传播,既表达突破的,也表达未突破的,留给青少年提出问题和思索的空间. 相似文献
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热带钢轧机板形综合控制技术开发 总被引:6,自引:0,他引:6
为了改善热带钢轧机的板形控制性能、提高产品的板形质量、降低生产消耗,针对工作辊可轴向窜动的热带钢轧机,在大量有限元模拟基础上开发了特殊的工作辊辊形技术和支持辊辊形技术及相应的板形控制模型,包括过程控制系统(L2级)的板形设定控制模型和基础自动化系统(L1级)的弯辊力前馈控制模型、凸度反馈控制模型及平坦度反馈控制模型.在经历离线模型建立、在线编程和调试等诸多复杂过程后,辊形技术及板形控制模型在工业宽带钢热轧机上进行了长期、稳定的应用.生产实践表明,采用这些板形控制技术后,凸度偏差控制在±18 μm的比例超过93%,平坦度偏差控制在±25 IU的比例超过94%,同时实现了自由规程轧制. 相似文献
10.
采用红外光弹测量法用磁控溅射淀积在SiO2/Si晶片表面的Cu膜在Si衬底中引入的应力。结果表明:SiO2在Si衬氏中引和张应力,而Cu在Si衬氏中引入压应力,在Cu/SiO2/Si结构中,随SiO2膜厚减小和Cu膜厚增大,Si衬底中张应力逐渐减小,最终转为压应力。同时比较、分析了理论估算值和实验结果的差异,预示和分析了Cu引线的可靠性。 相似文献