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采用反应直流磁控溅射的方法在室温下,在玻璃基底上成功制备了多晶氮化铜(Cu3N)薄膜.XRD显示薄膜是择优生长取向的,在低氮气分压时薄膜择优[111]晶向生长,在高氮气分压条件下薄膜的择优生长取向为[100]、[111];XPS分析表明,在低氮气分压时,薄膜主要由Cu3N和Cu组成;在高氮气分压时,薄膜主要由Cu3N组成,而Cu的含量很少. 相似文献
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GaAs半导体光致发射极化电子源是70年代末国际上出现的一种新型极化电子源。它采用GaAs半导体晶片作为光阴极,并在高真空环境下将碱金属铯及氧化剂镀到光阴极上,以获得负电子亲和势(Negative lectron Affinity)表面,然后通过用波长合适的圆偏振激光阴极,来获得自旋极化的电子束,详细讨论了GaAs半导体光致发射极化电子源的原理及实验过程,并介绍了极化电子在极化(e.2e)反应中的应用。 相似文献
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描述了光子自旋沿任何方向分量的本征值及对应的本征矢,在任意两个相互垂直方向上,在第一个方向自旋分量的本征态中测量第二个方向自旋分量时,对获得它的各个本征值的概率的求法进行了讨论,并运用所得结果计算出用施特恩-格拉赫装置测量粒子自旋分量的概率. 相似文献
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在20世纪物理学发展进程中,存在着许多争论,其中争论时间最长、涉及问题最多、影响最深的莫过于爱因斯坦与玻尔关于量子力学诠释之争。现在我们站在世纪之交的门槛上,回顾和分析这场争论,对于量子力学的理解及其哲学实质的认识是很有意义的。... 相似文献
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从磁场的强弱、朗德g因子取值、量子力学微扰论等三个方面对正常塞曼效应和反常塞曼效应进行了比较,揭示了正常塞曼效应和反常塞曼效应之间的区别和联系. 相似文献
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等离子体蚀刻硅深沟道用作存贮器件的储存电容有非常重要的作用,就等离子体在微电子制造领域中蚀刻二氧化硅,多晶硅的原理和如何控制形状(profile)和深沟道的深度做了研究,解释了HBr,NF3,He_30%O2气体,压力对蚀刻速率,Si/SiO2蚀刻选择比的影响.结果表明:蚀刻率随HBr流量的增大而增大,压力和侧壁保护气体He_30%O2控制着整个蚀刻图形. 相似文献
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器件兼容功能层的自组装工艺是一种简单、可行和节能的策略。在介孔钙钛矿太阳能电池(perovskite solar cells, PSCs)中,致密的TiO2膜起到空穴阻挡层的作用,而介孔的TiO2膜起到电子传输层的作用。然而,这两层通常都要通过高温退火法获得。在此,我们通过室温自组装工艺沉积了致密的TiO2薄膜,以作为PSCs有效的空穴阻挡层。通过沉积时间控制致密TiO2薄膜的厚度。优化致密TiO2薄膜的厚度(80 nm),有无空穴传输层的介孔PSCs的能量转化效率分别为17.95%和10.66%。值得注意的是,基于自组装TiO2的全低温PSCs显示出16.41%的能量转化效率。 相似文献