离子束强化在镀氮化钛薄膜中的应用

系统地进行了离子束强化真空沉积镀、射频离子镀和离子束强化射频离子镀3种镀TiN薄膜的实验,并对不同方法制备的TiN薄膜进行了性能测试与组织结构分析。研究结果表明,离子束强化不仅有提高沉积速率,细化晶粒,促进晶体择优取向的作用,而且可改善薄膜的附着力与耐磨性。因此可推荐用于提高耐磨性为目的的TiN镀膜生产上。     

射频离子镀氮化钛的实验研究

较系统地研究了射频离子镀氮化钛工艺。分析了各参数之间的制约关系,提出了合理控制工艺参数的方法。研究结果表明,射频离子镀的成膜速度随炉内压力的减小而加快,电子枪功率的加大将提高了离子束电流强度,基板与蒸发源距离的加大将降低成膜速度;粒子的入射角度在 45°—135°为宜。但成膜速度与射频起振器功率、基板的负偏压无关。要想提高离子的密度,必须加大电子枪功率,同时要增大射频的起振动率。     

晶界结构与金属材料的各种性质

晶界的存在对金属和合金的各种性质有重要影响,这点已为人所共知;另方面,对晶界的结构,近来也从理论上和实验上搞清了。为弄清楚在金属及合金中的晶界结构与某些特性之间的关系,在我们的研究中对诸如晶界滑移、晶界偏析以及由于液态金属引起的脆裂等进行了若干实验。本文即根据这些实验写出的。必须强调的是,以上这些特性在很大程度上取决于晶界结构。     

无刻蚀镀铁交流活化机理的研究

通过考查不对称交流条件下镀铁层电结晶的形貌,研究了无刻蚀镀铁工艺的交流活化机理。结果表明:在交流电作用下镀层呈柱状结晶,表现出低硬度和高塑性。当不对称比β值接近1时,由于镀层将沿基材原晶体外延生长,从而导致金属键的形成。由此解释了无刻蚀镀铁层具有高结合强度的原因。