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由于常规等离子体刻蚀系统在晶圆边缘处的阻抗与晶圆中心处的阻抗不一致, 使离子在晶圆边缘处的运动轨迹发生偏移, 很难满足越来越高的刻蚀工艺均匀性及深宽比的要求。本文提出一种通过调整晶圆边缘阻抗进行边缘离子运动方向优化的方法, 可以连续实时地调整边缘离子的运动轨迹, 实现对边缘离子运动方向的控制。研究结果表明, 离子的运动方向可以被优化为垂直于晶圆表面, 从而能获得良好的刻蚀速率均匀性及垂直的刻蚀形貌。 相似文献
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燃烧是一种非常重要的过程,各种组份的浓度和火焰的温度变化很快,用普通的手段难以追踪监测,更难以了解实际的基元化学反应过程。但是,利用激光技术则可对燃烧过程进行无扰动的、高灵敏度的、高空间分辨的瞬时测量。所获得的信息非常有用,象火焰的温度场,许多微量中间产物的检测及其分布,化学反应区域,污染物和烟炱的形成机理等等。 相似文献
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