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1.
光刻工艺中关键流程参数分析
简祺霞
王军
袁凯
蒋亚东
《微处理机》
2011,32(6):14-17
主要介绍了光刻工艺的基本流程,并分析了光刻工艺中的流程参数及影响光刻质量的主要因素,讨论了两种不同光刻胶在不同转速下的厚度、均匀性及留膜率,提出了光刻工艺中部分常见问题的解决方法.通过工艺优化,确定AZ3100和AZ703两种光刻胶的最佳工艺参数.
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