半导体工艺中基片的冷却方法

本文首先叙述冷却基片的各种方法。然后介绍LK—2型离子束蚀刻机所采用的半导体致冷器冷却基片的方法。在典型的工作条件下,对半导体致冷器冷却效果进行了测量,根据基片的温升曲线、表明采用半导体致冷器冷却基片是一个有效方法。     

一种新型的离子束蚀刻设备——LK—2型离子束蚀刻机

本文介绍最近研制成功的LK—2型离子束蚀刻机的性能特点、用途。并简单介绍一些初步工艺实验的结果。     

LD—1型离子束镀膜机及其应用

本文首先介绍LD—1型离子束镀膜机的特点、性能和主要技术参数,然后结合一些典型器件工艺,论述LD—1机的用途。最后介绍华南工学院肖金生等人用本机研制CoSi_2—Si异质结的成果,作为本机的一个应用实例。     

一个优良的离子加工用离子源

本文介绍束直径116毫米的电导磁多极离子源的设计及实验结果。采用变孔径匹配栅网的离子光学系统,改善束流密度均匀性,有效束径大于91毫米。     

改善压力传感器的稳定性研究

评价传感器和仪器仪表质量优劣的一项重要指标是稳定性,其好坏直接影响测试系统数据的有效性和测试精度。提出了量化和测试传感器稳定性的一些方法。并就产生压力传感器不稳定性的因素作了比较详尽的分析,同时总结了实际应用中改善稳定性的一些技术措施     

卡夫曼离子源设计新进展——平板栅网热形变的束流匹配补偿技术

在大直径的卡夫曼离子源中,作为离子光学的栅网,因热形变将严重影响束流品质,尤其是使束流密度均匀性分布变差。本文将介绍一种束流匹配技术,使其栅网热形变对束流密度分布均匀性影响减小到最低程度,并改善了束流密度分布的均匀性。