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本文研究了工业电解镍沉积层的微观组织随着生产时间变化的特征。利用XRD、SEM、EBSD等分析手段对电解镍板择优取向,微观形貌,特征晶界分布等随着生产时间变化的特征进行了研究。结果表明:电沉积镍板在表面上晶体主要以垂直于(200)面的方向生长,在截面上表现为(111)、(200)双择优取向,晶体生长方式为侧向生长。表面与截面表现出不同的微观形貌,表面上由棱锥状转变为胞状,生长机制由螺旋位错驱动生长变为原子聚集堆积长大;各阶段镍板截面形貌始终为层片状组织。沉积层中截面主要为大角度晶界,并产生大量的∑3孪晶界。稳定生长过程中,随着沉积进行大角度晶界比例逐渐下降,∑3晶界相对频率逐渐升高,但是它们都会受到电解槽环境变化的影响。在截面上沿着生长方向,电解镍板主要表现为<001>纤维织构,大量∑3孪晶界对沉积层取向产生影响。通过提高∑3孪晶界比例或选择∑3孪晶界较高频率所对应时间的电解镍,以此获得强度和塑性更优的电解镍。电解镍沉积层演变规律得以明确意味着在后期的研究或者指导工业生产中能够对电解镍的组织进行微观调控,实现工业条件下电解镍的订制生产。 相似文献
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采用氙灯加速老化试验方法,研究氙灯老化对塑格悬浮式拼装运动地板性能的影响,分析试样内部的结构变化,探索其老化机理。结果表明,氙灯老化后,试样的分子量显著降低,小分子在重均分子量中所占比重增大;试样在光、热和氧的共同作用下,分子结构中大分子断链,化学键重组,生成C=C,C-O等新官能团;氙灯加速老化,使得试样的抗氧剂丧失作用,试样进入自动氧化模式,综合性能下降。 相似文献
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单光束分波前调制参考光两次曝光全息测位移方向 总被引:1,自引:0,他引:1
本文提出用单光束分波前调制参考光两次曝光全息测量物体位移方向的方法。在两次曝光全息图的记录过程中,置物体一侧的反射镜作微位移,反射镜反射的参考光被调制,由此记录的双曝光全息图含有物体位移方向的信息。在测量光路统中,设置了两张全息干版,一张用于记录单光束分波前调制参考光两次曝光全息干涉图;另一张记录非调制双曝光全息干图。前者用来分析物体的位移方向,后者用于计算物体位移的数值。通过分析,从理论上确定了物体位移方向与反射镜位移向之间的基本规律。文中着重阐述了位移方向的测量原理,导出了相关公式,给出了实验结果。 相似文献
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本文利用大面积EBSD拼接技术,对电解镍板在生长方向上的晶粒形貌及尺寸、择优取向、晶界特征分布等随着沉积的变化进行了研究,并通过SEM观察镍板的微观形貌。结果表明:镍晶粒随着沉积的进行由细小的等轴晶粒转变为粗大的柱状晶,尺寸呈微纳米级;晶体取向在沉积初始没有强的择优取向,最终转变为<001>取向;沉积初期,在大角度晶界占比80%以上,随着沉积进行,大小晶界的比例在沉积层不同位置出现差异;镍沉积层中大量相邻晶粒间以∑3、∑9、∑27孪晶界为界,其中∑3晶界频率达到65%以上。在始极片不同表面形成的镍沉积层长大方式不同,细晶粒表面按照形核长大方式生长,在自由生长的表面镍原子直接并入晶格,没有经历形核过程。 相似文献
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针对编制软件评价光学元件的质量问题,文章提出了MTF值的计算方法,并且以此值作为光栅图像的对焦评价函数。通过计算光栅图像实时得出MTF值。这种方法具有使用方便,抗干扰等优点,最后利用实验证明此法确实能判别图像清晰程度。 相似文献