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Using the MEVVA ion source, carbon ions have been implanted in TiN coatings deposited by multi-arc ion plating The Vickers microhardness of the C+ -implanted TiN films increased with the increase in the ion flux and dose. X-ray diffraction (XRD) analysis showed that the TiC phases had been formed in the films. In addition, the films had the preferred growth orientations of TiN and TiC, both of which were (111) orientation after annealing at 500℃ for 30 min. Auger electron spectra analysis indicated that C+ -implanted profile was in typical Gaussian-like distribution in single films. The distribution with multipeaks of C atoms was obtained in multi-layer TiN/Ti. The possibility of the multilayer films (Ti (C, N)/TiN/Ti(C, N)/TiN and Ti(C, N)/TiC/Ti(C, N)/TiC) forming using the C-implanted TiN/Ti films is presented for the first time. 相似文献
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钼离子注入硅薄层硅化钼的合成 总被引:1,自引:0,他引:1
用大束流密度的钼金属离子注入硅,能够直接合成性能良好的薄层硅化物。随着束流密度的增加,硅化钼生长,薄层硅化物的方块电阻Rs明显下降,当束流密度为0.5A/m^2时,Rs达到上值90Ω,说明连续的硅化物已经形成。X衍射分析结果表明,注入层中形成了3种硅化钼Mo3Si、Mo5Si3和MoSi2。经过900℃退火后,Rs下降至4Ω,电阻率可小到0.16μΩ.m,说明硅化钼薄层质量得到了进一步的改善。大束 相似文献
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评述了离子束技术的发展和应用,特别针对离子束多功能综合加工技术的发展进行了评论.这种技术已经成为独具特色的热处理技术.该技术属于低消耗、高产出、高效率和无污染的绿色加工技术.评述了这一技术的未来发展方向. 相似文献
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本文对磷离子能量在0.5—7.5MeV、剂量在2.0×10~(12)—1.0×10~(13)/cm~2范围内注入硅中的载流子剖面进行了研究,发现在此条件下,n型磷载流子剖面是由两个只有不同偏差σ_(tront)(σ前)和σ_(back)(σ后)的高斯分布相连接组成的。根据实验所得剖面特性,提出了多次迭加形成平坦剖面的方法。用这种方法结合SiO_2膜屏蔽和调整注入离子能量、剂量,能够获得各种有特殊要求的载流子浓度剖面。为了得到好的可控性和可重复性,采用了瞬态退火技术。透射电镜分析表明:在我们所用退火条件下,剩余缺陷并未出现。这种迭加注入已应用于特种器件研制中,试制出的产品获得令人满意的结果。 相似文献
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Polymeric solids have low density, high ability to form intricate shapes, versatile electronic properties and low manufacturing cost. However their uses are still limited by their inherent softness and unexpected dielectric properties. In order to enhance their electrical and mechanical properties, ion implantation techniques have been explored[1—3]. Recent studies have shown that ion implantation is very effective for improving surface properties of polymers such as surface hardness and wear… 相似文献
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透射电子显微镜观察表明,经过Ti注入的钢,表面形成了直径为3.5~20nm的FeTi_2相,镶嵌在注入层中,其平均直径为8nm。靶温在400℃注入时,这些纳米相出现在位错和晶界处。这种镶嵌的结构具有很强的抗磨损特性和抗腐蚀特性。经过退火后,这种结果将发生变化。在350~500℃退火20min后,其结构没有明显的变化,但是注入层的硬度得到了明显的提高。经过500℃退火后,表面硬度最高。说明退火能有效地增强表面强化效果。当退火温度为750℃和1000℃时,位错和晶界消失,纳米相平均直径分别增加到10 nm和15 nm。其平均密度分别为8.8×10~(10)/cm~2和6.5×10~(10)/cm~2。注入硬度明显下降,说明基体软化。 相似文献
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N 和 Ti 注入 TiN 的射程和损伤已在本文中给出。N 和 Ti 注入 TiN 使其颜色发生了变化。试验结果表明,N 和 Ti 注入 TiN 均能使 TiN 的硬度增加.特别是 N 注入使注入层硬度提高更为显著.如5×10~(17)cm~(-2)的 N 注入 TiN,可使 TiN(此时 Ti/N 原子不再是1)的维氏硬度从2600提高到6000.为了分析 N 和 Ti 注入引起 TiN 硬度增加的原因,用 XPS 测量了 N 和 Ti 注入 TiN 所引起化学结构的变化。试验中观察到间隙 N 和 Ti2N 峰的出现.用扫描电镜观察了注入样品磨损后的形貌。据此讨论了 Ti 和 N 注入而引起 TiN 特性变化的机理。 相似文献