首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   30篇
  免费   0篇
工业技术   30篇
  2012年   1篇
  2011年   1篇
  2009年   1篇
  2007年   1篇
  2006年   2篇
  2002年   5篇
  2001年   1篇
  2000年   1篇
  1997年   1篇
  1996年   2篇
  1993年   1篇
  1991年   2篇
  1990年   1篇
  1989年   3篇
  1988年   2篇
  1987年   2篇
  1986年   2篇
  1985年   1篇
排序方式: 共有30条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
制氧车间透平空压机系统噪声治理   总被引:1,自引:0,他引:1  
文章介绍了某冶炼厂制氧站32000m^3/h空气透平压缩机组的噪声治理,采用组合式隔声罩隔音降噪,静压腔和消声器箱结合进行进风消声,低噪轴流风机排风和消声器进行排风消声等措施,选用合适的吸声材料,隔音降噪效果明显。  相似文献   
2.
本文介绍用免疫荧光试验检测人外周血 B 淋巴细胞的S_mI_gG~+细胞率和帽状形成百分率,观察不同剂量~(60)Co γ射线体外照射对淋巴细胞帽状反应的影响,并用松胞素 B 或秋水仙素处理淋巴细 胞,与单纯照射或药物加照射后的影响相比较,以探讨辐射损伤的可能机理。结果表明,电离辐射对淋巴细胞的帽状反应具有抑制作用;辐射对帽状反应的抑制作用,除电离辐射直接引起质膜损伤外,还可能与微丝、微管功能受损有关。  相似文献   
3.
液膜法去除萃余液中氨氮的试验研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
介绍了液膜法处理某湿法厂高浓度氨氮废水的处理工艺,萃余液氨氮废水(NH3-N>500mg/L)经液膜法处理后,出水NH3-N浓度<15mg/L,无二次污染。  相似文献   
4.
本文介绍用~(51)Cr 标记淋巴细胞方法,观察了不同剂量~(60)Coγ射线体外照射对大鼠脾淋巴细胞在体内原发移行和归巢的影响。观察结果表明,在注射淋巴细胞悬液后2小时,受照淋巴细胞异常地滞留在肝脏和肺,而归巢到肠系膜淋巴结和肠相关淋巴组织的数量显著减少;辐射对淋巴细胞在体内移行和归巢的影响,除直接与细胞质膜系统损伤有关外,还可能与微丝/微管系统的损伤有关。  相似文献   
5.
6.
7.
本论述有色行业环境污染现状,存在问题与外在技术上的差距。阐述“十五”期间铜铅锌冶炼企业应重点研究的污染治理琢目标预测,提出“重点攻关、建立示范,逐步推广”的环保技术对策。  相似文献   
8.
氨氮废水处理技术现状及发展   总被引:25,自引:0,他引:25  
系统地概述了氨氮废水处理技术现状及在工业中的应用情况,并在分析和评价的基础上探讨其发展趋势。  相似文献   
9.
本文首先列举目前煤气收费办法的多种弊端,然后介绍5种经过改革的煤气收费方式。最终推荐采用当今世界多国广泛流行的IC卡收费办法,并详细介绍IC卡管理系统的构成及其优点。文末提出解决其先期资金投入问题的三条途径。  相似文献   
10.
本文作者应用同位素氚标记的胸腺嘧啶核苷(~3H-TdR)掺入法测定植物血凝素(PHA)、葡聚糖硫酸盐(DS)两种丝裂原刺激下的T、B淋巴细胞转化试验,各种花环试验(ERFC、ERFC、ZC_3RFC、M_ERFC、EA_GRFC和EA_MRFC),非特异性酯酶染色(ANAE)及淋巴细胞乳酸脱氢酶(LDH)同功酶谱的测定等指标,观察电离辐射对淋巴细胞及其亚群的辐射效应。主要结果如下: 1.淋巴细胞是具有高度辐射敏感性的不均一群体。总的说来,B细胞辐射敏感性高于T细胞;Tγ细胞的辐射敏感性比Tμ细胞高。 2.T、B淋巴细胞非特异性转化反应是一项辐射敏感性较高的指标,B细胞转化反应对辐射效应比T细胞转化反应更为敏感。 3.电离辐射对ANAE活性和E花环形成率均有显著抑制作用,但对ANAE活性的抑制较对E花环形成率的抑制更为显著,提示ANAE染色更能反映T胞细的辐射损伤效应。 4.T、B淋巴细胞在中等剂量照射后,LDH_5含量相对百分比都见增高,但T细胞LDH_5百分比的升高与对照组之间的差别无统计学意义。B细胞经2.5或5.0Gy照射后LDH_5百分比升高与对照组之间差别显著(P<0.05)。这种T、B细胞照射后LDH_5变化的不同,提示B细胞辐射敏感性可能高于T细胞。 5.淋巴细胞中各种RFC数随照射剂量的增加而下降,且具有时相性变化。各种RFC的D。值变化顺序为ERFC>ZC_3RFC>E_  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号