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采用倒筒式直流溅射(ICS)方法,辐射方式加热基片,通过电机带动基片旋转,在两面同时溅射沉积YBCO高温超导双面薄膜。在加热温度为850℃,总压强为35Pa,氧氩比为1∶2,靶基距50mm,基片转速5~40r/min条件下,在20mm×20mm的LaAlO 相似文献
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倒筒式直流溅射法生长大尺寸双面YBCO高温超导薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
采用倒筒式直流溅射结合辐射加热方法对无源微波器作用的Y1Ba2Cu3O7-x(YBCO)双面薄膜生长进行了研究,实验结果表明:直流非磁控溅射可以制备性能良好的薄膜,通过基片绕支撑和基片表面法线旋转,实现了在(100)LaAlO3基片两面同时原位沉积厚度均匀的BCO薄膜,生长出的φ25.4mm(linch)同质量的BCO双面薄膜,两面的Tc0分别为90.3K和90.4K,超导转变宽度均为0.8K,两面的微观表现电阻(Rs)随温度变化一致,Rs(77K,10GHz)分别为330μΩ和400μΩ,在直径30mm的基片上,薄膜的厚度均匀性良好,其厚度起伏在10%以内,薄膜面内的Tc0分布在90K附近,Rs都分布在1μΩ以内,能满足微波器件研制的需要。 相似文献
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