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1.
采用部分相干成象理论对二元光机照明进行了较为详细的研究。分析了二元光栅照明对分辨力,焦,照明能量和照明均匀性的影响,并通过实验研究验证了二元光栅对分辨力和焦深有较大程度的提高,同时能量损失不大。 相似文献
3.
弱调制介质光栅可等效为平板波导,经其衍射的高级次子波与波导模式耦合时,形成导模 共振。由高级子波在介质光栅中的光程及菲涅耳相移,导出了垂直入射时弱调制介质光栅共振位置的解析表达式,其预测结果和严格耦合波理论所得值一致。导模共振对入射波参数和光栅参数极为敏感,具有窄带效应,可用来制作窄带滤波片。 相似文献
4.
介绍了分步重复投影光刻业半微米光刻物镜光学和机械结构研究设计、设计结果,以及公差控制。指出技术指标已达到:数值孔径NA=0.63、工作波长λ=365nm、倍率5x、工作分辨力R≤0.35μm,设计和镜所用透镜片数最少,无胶合件,并具有暗场同轴对准和温度气压控制补偿功能。 相似文献
5.
介绍中心对称材料二次谐波产生(SHG)的基本原理,通过数值模拟计算,分析研究影响中心对称材料SHG的因素.其中,光子晶体带隙(PBG)的影响最为关键,它决定了SH能否产生;激励波入射角与组成结构的耦合介质柱和填充因子对SHG强度大小也有较大影响,按文中结构,耦合介质柱有2排已足够,最佳入射角为20°~30°,填充因子为0.6. 相似文献
6.
分析温度气压对物镜光学材料、透镜厚度间隔,以及空气折射率的影响,并用空气折射率对物镜像质影进行模拟计算。研究表明物镜焦面产生较大漂移,对僧率有一定影响,而对畸变影响较小,指出对物镜进行温度气压控制补偿是必要的。 相似文献
7.
提出制做纳米点阵的一种新方法。用波长为 4 2 5 .5 nm的光梯度场操纵铬原子可制做出阵列密度达 2 .2 1× 10 7per/ mm2、理论半高宽度 (FWH M)可达 10 nm的纳米点阵。介绍用光梯度场操纵原子制做纳米点阵的原理 ,对原子束的准直进行分析 ,给出原子束在激光梯度场中聚焦的经典模型和量子模型并进行数值模拟。用光操纵原子制做纳米点阵使器件的阵列密度和尖端曲率得到大幅度提高 ,该器件作为发射极可以降低工作电压和提高发射电流。 相似文献
8.
介绍了将激光驻波聚焦原子束技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性及像差 ,数值结果显示原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为 10nm左右 ,可以实现纳米级超微细图形的制作。同时给出了实验装置及初步实验结果 相似文献
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纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分,原子光刻技术是纳米图形制作的一项新方法.对直流高压放电产生的亚稳态氩原子束进行准直减小其发散角,亚稳态原子在与之传播方向垂直的激光驻波场中发生淬火并沉积在基底上,破坏吸附在基底表面的SAM膜(self_assembled monolayers),结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形.给出该技术制作纳米图形的基本原理、方案、相关理论及模拟结果. 相似文献
10.
介绍对亚微米分步重复投影光刻机光刻工作分辨力、套刻和生产能力三项主要技术指标的设计分析,方案考虑以及采取的技术措施。测试结果表明这些考虑是必要并且有效的,它为光刻机的研制成功打下基础,也为设计下一代指标要求更高的光刻机提供有益的参考。 相似文献
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