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用MOCVD方法在柔性金属衬底上沉积超导膜是潜在的实用高温超导成材方法。用适当方法原位快速地制备有择优取向的防扩散过渡层是其中的关键。本文报导用有机源Y(dpm)_3和Zr(dpm)_4,采用MOCVD方法在Ni基合金衬底上沉积了Y稳定的ZrO_2立方相过渡层,厚度约0.5μm。文中研究了氧分压和沉积温度对YSZ结晶和择优取向的影响。结果表明,在生长压力为130Pa时,氧分压低至20Pa,制备出(111)取向为主的YSZ多晶膜,氧分压为50~100Pa,则制备出(h00)择优取向为主的YSZ膜。衬底温度太低,将导致YSZ膜质量变差。 相似文献
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用浓度40—50%的丙烯酸水溶液作原料,占单体重量8%的过硫酸铵为引发剂,占单体重量20%的异丙醇为分子量调节剂,聚合浓度为25%,在回流温度下进行溶液聚合,可得到(?)n=1000左右、高温静态消垢率>95%、贮存稳定的聚丙烯酸。改变加料方式,严格操作,可以将引发剂量降低到单体重量的4%,异丙醇用量降低到单体重量的10%。以0.025%的 CuSO_4作分子量调节剂,产品消垢效果较好。经100升及1000升反应釜扩试,各项较佳聚合条件指标均达到小试水平。工业化后,工艺可靠,产品质量稳定,无三废。产品作为水质稳定剂复合配方的组分经有关生产单位试用后效果显著。 相似文献
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