一种中磁场层状阳极溅射离子泵

一、引言自从1954年Gurewitsch和Westendorp发表“Ionic pump”以来。距离现在已有三十多年。在此期间,溅射离子泵取得了很大的进展,它已成为获得清洁超高真空的主要抽气设备,广泛地应用于几乎所有的真空领域。改进溅射离子泵的阳极结构,是提高其抽气性能的重要途径。最早的溅射离子泵的阳极     

低温水泵和分子泵组合替代低温泵的新设备

本文介绍了一种新型超高真空辅助设备－低温水泵，用之和分子泵组合，可以获得１０＾－８Ｐａ的清洁超高真空，用在半导体集成电路生产过程中，可以使产品质量以及生产效率均得到改善和提高，抽气机理以及设计要点均在文中有所论述。