国外真空获得设备的发展现状

本文针对国外的一些真空厂家近期生产的一些真空泵的主要性能和结构特点进行了一些分析和介绍，并对我国今后的在真空泵方面的发展提出一些粗浅看法，以供参考。     

分子泵的世纪回顾与展望

分子泵自1912年诞生以来,至今已快近一个世纪了,它在初期进展较缓慢,在1970年以前,分子泵的应用还仅限于核物理,电真空,表面科学等领域,但近20年来由于半导体产业的兴起和薄膜工业的发展,分子泵才被人们所重视,并得到了兴旺和发达,现代的分子泵已发展到实用和普及的阶段,本文回顾了分子泵分析近百年的发展历史,详细地介绍了分子泵在各个时期的发展状况,对初期的分子泵,涡轮分子泵,磁悬浮轴承和气体静压静轴式涡轮分子泵,复合式分子泵,低温型涡轮分子泵,新型牵引分子泵,陶瓷涡轮分子泵,轴反应生成物的涡轮分子泵和极高真空涡分子泵等做了重点的分析,最后指出分子泵的发展前景。     

水蒸汽喷射泵系统实用设计软件的开发

本文在Turboc环境下开发了多级蒸汽喷射泵系统的设计软件，该软件包括了压缩比优化分配、单级喷射泵结构尺寸设计和冷凝器的结构尺寸设计等内容，使设计人员能够根据具体的工艺条件，快速地完成多级喷射泵系统的设计，对于提高多级喷射泵系统的工作稳定性、节省能源具有实际意义。     

关于真空除气使用的真空泵情况分析与讨论

为使真空泵的抽气能力能最大程度适应除气过程,在选用真空泵时需考虑到搅拌气体数量、设备表面放气和设备的漏气率.随着钢液真空处理技术的发展,能保证高效率、有效地脱除钢液中的气体成为迫切的问题.由于抽出气体有灰尘,维修次数多等综合因素,应采用抽气能力大、运转可靠性强、结构简单的蒸汽喷射泵而非机械泵.但近年来,钢液真空处理真空...     

转轴偏心对磁流体密封耐压的影响

转轴相对于极靴存在的偏心,会使磁流体真空转轴密封的实际耐压能力大大下降。本文通过计算偏心时,齿型间隙中的磁场分布,得出偏心影响系数β与间隙变化率V间的定量关系式β=((1-v)/(1 V))~(1/2),进而提出密封间隙的设计理论依据和降低偏心因素对密封耐压能力影响的措施。     

第二届亚太地区国际微波会议(APMC''88)在北京召开

由中国科学院主办,国际无线电联盟(URSI),IEEE北京分部,中国通信学会微波专业委员会,东南大学,中国电子科技大学,北京理工大学,北京邮电学院等单位协办,第二届亚太地区国际微波会议(APMC′88),于1988年10月26日至28日在北京翠宫饭店召开。参加这次会议的有来自日本、印度、美国、西德、英国、香港等国家和地区近四十名外国代表,来自全国各地的教授,研究员和专家等100多名中国代表参加了会议。     

离子注入条件下单晶银薄膜形成的理论探讨

在室温环境下，用不同的注入剂量将２４ｋｅＶ的Ｎ＋离子和３５０ｋｅＶ的Ｘｅ＋离子注入进多晶银薄膜中。对实验结果进行分析后发现，经离子注入后在银薄膜中出现了再结晶和晶粒长大现象。当注入的离子达到一定剂量时，多晶银薄膜转变成单晶银薄膜．本文对单晶银薄膜的形成机理作了探讨，认为与晶粒生长有关的主要因素是：（１）离子注入．过程中在薄膜内部产生的高密度的缺陷和位错促进了晶粒再结晶和晶粒生长。（２）由于晶格畸变而产生的界面张力为在晶粒初始再结晶以后的进一步长大提供了驱动力。（３）晶粒之间的取向差有助于晶粒的生长。（４）离子注入过程中产生的晶格弛豫效应促使薄膜中的应变能不断恢复和产生，使晶粒持续不断地再结晶而逐渐长大。（５）薄膜的基底对单晶薄膜的形成有一定影响。     

Cu-Cr Cu-Ti双层薄膜离子束混合与其电阻和硬度性质

借助于透射电子显微镜(TEM)研究了Cu-Cr、Cu-Ti双层离子束混合。分别用200keVAr~ 和350keVXe~ 注入Cu-Cr、Cu-Ti双层薄膜,对其混合后的表面硬度和电阻进行了测量。发现Cu-Cr双层混合,在10~(17)/cm~2Ar~ 注入剂量时,TEM形貌图出现了沟纹,为一离子择优溅射效果,此时形成了单一的Cu基亚稳相固溶体,经200℃退火后,有孪晶生成,Cr沉淀析出,而Cu-Ti双层离子束混合有Cu_3Ti_2相生成,在400℃退火时生成了Cu_3Ti相。离子束混合的表面硬度和电阻都有了显著地增加。经100～400℃退火,其表面硬度和电阻的变化主要受退火前混合程度、热处理引起的相变及损伤程度的综合影响。     

N~ 、Xe~ 离子注入银薄膜的实验分析

实验研究了离子注入对多晶银薄膜晶体结构及表面成份的影响。在室温环境下,将能量为24keV的N~ 离子和350keV的Xe~ 离子以不同的注入剂量注入到多晶银薄膜中。对离子注入前后的银薄膜样品进行了透射电子显微镜(TEM)观察和X射线光电子能谱(XPS)及俄歇电子能谱(AES)分析。经分析发现,离子注入后在银薄膜中出现了再结晶和晶粒长大现象,而且晶粒尺寸随注入离子的剂量增加而增加。当注入的N~ 离子剂量≥1.3×10~(17)Ions/cm~2及注入的Xe~ 离子剂量达到3×10~(16)Ions/cm~2时,多晶银膜转变成单晶银薄膜。本文对实验结果进行了讨论。     

Monte Carlo计算枧模拟—离子注入双层薄膜中的浓度分布

使用Monte Carlo方法模拟350keVXe~ 注入Cu/Ti双层结构,研究界面所造成的离子浓度分布的不连续性,并讨论界面位置对浓度分布的影响。在模拟600keV Bi注入Al/Ti双层结构时,当考虑有界面势存在,则其理论值与实验值符合得更好。