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ZnO/BaTiO3纳米复合材料的制备及其发光性质 总被引:1,自引:0,他引:1
采用溶胶-凝胶技术制备了ZnO/BaTiO3纳米复合材料,用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)测定了不同温度处理后样品的组成、结构、形貌和尺寸.对复合材料室温下的光致发光谱分析发现,复合材料的发光强度比纯的纳米ZnO发光显著增强;纳米ZnO中氧空位引起的510nm发光带的峰位随着热处理温度的不同而分别出现蓝移和红移现象.其中蓝移主要是量子尺寸效应引起的,而红移则可能与致密化的BaTiO3所提供的高介电场有关. 相似文献
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采用溶胶-凝胶技术制备了ZnO/BaTiO3纳复合材料,用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)测定了不同温度处理后样品的组成、结构、形貌和尺寸。对复合材料室温下的光致发光谱分析发现,复合材料的发光强度比纯的纳米ZnO发光显著增强;纳米ZnO中氧空位引起的510nm发光带的峰位随着热处理温度的不同而分别出现蓝移和红移现象。其中蓝移主要是量子尺寸效应引起的,而红移则可能与致密化的BaTiO3所提供的高介电场有关。 相似文献
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为了实现高质量刻蚀阻挡型InGaZnO薄膜晶体管(IGZOTFT)器件,研究了IGZO TFT关键制备工艺,其中重点探讨了IGZO成膜氧分压、退火工艺、IGZO成膜均一性对于IGZO TFT电学特性的影响。通过优化成膜和退火工艺在G6玻璃基板上制作的IGZOTFT器件,阈值电压0.72 V,亚阈值摆幅0.2 V/dec,迁移率9.57 cm~2/V·s,Ion/Ioff10~8,IGZO TFT大基板阈值电压均一性最大偏差小于2 V。最后进行了IGZO TFT长期稳定性测试以及正负偏压应力测试,结果表明IGZO TFT器件经过长时间空气暴露会导致特性劣化,负向偏压应力劣化较为明显。所制备的刻蚀阻挡型IGZO TFT器件可以满足高质量液晶显示的要求。 相似文献
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